特許
J-GLOBAL ID：200903069262593512
フォトマスク用ブランクス及びフォトマスク
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小島 隆司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-124276
公開番号（公開出願番号）：特開2001-305713
出願日： 2000年04月25日
公開日（公表日）： 2001年11月02日
要約：
【要約】【解決手段】 透明基板上に少なくとも一層の遮光膜と少なくとも一層の反射防止膜とを有するフォトマスク用ブランクスにおいて、上記遮光膜及び反射防止膜の全てがCrCO層若しくはCrCON層又はCrCO層とCrCON層とを組合せた複合層から形成されてなることを特徴とするフォトマスク用ブランクス及びフォトマスク。【効果】 本発明によれば、膜応力が小さくなり、成膜前後の基板のそりを低減することができ、歪みのない正確なパターン形成が可能となる。
請求項（抜粋）：
透明基板上に少なくとも一層の遮光膜と少なくとも一層の反射防止膜とを有するフォトマスク用ブランクスにおいて、上記遮光膜及び反射防止膜の全てがCrCO層若しくはCrCON層又はCrCO層とCrCON層とを組合せた複合層から形成されてなることを特徴とするフォトマスク用ブランクス。
IPC (5件)：
G03F 1/08
, C23C 14/06
, G02B 1/11
, G03F 1/14
, H01L 21/027
G03F 1/08 G
, C23C 14/06 P
, C23C 14/06 K
, G03F 1/14 F
, G02B 1/10 A
, H01L 21/30 502 P
2H095BB37
, 2H095BC05
, 2H095BC11
, 2H095BC14
, 2K009AA04
, 2K009AA05
, 2K009BB02
, 2K009CC03
, 2K009DD04
, 2K009EE00
, 4K029AA08
, 4K029BA41
, 4K029BC07
, 4K029BD00
, 4K029CA06
, 4K029DC03
