特許
J-GLOBAL ID:200903069271347346

タッチパネル用透明導電性基材の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-128936
公開番号(公開出願番号):特開2003-323251
出願日: 2002年04月30日
公開日(公表日): 2003年11月14日
要約:
【要約】【課題】 成膜後のアニーリング処理を行う事無く、耐ペン摺動性、耐薬品性、耐湿熱性に優れた結晶質の透明導電膜を積層させたタッチパネル用透明導電性基材の製造方法を提供する。【解決手段】 透明導電性基材として、ベース基材を高温に加熱した状態でベース基材上に導電膜を成膜することで、ベース基材上に直接結晶質の透明導電膜を積層させるタッチパネル用透明導電性基材の製造方法である。ベース基材の加熱温度は100°C以上230°C以下の温度であり、インジウム・スズ酸化物を主成分とする透明導電膜を積層させる。
請求項(抜粋):
100°C以上230°C以下の温度に加熱した基材上にインジウム・スズ酸化物を主成分とする透明導電膜を積層させるタッチパネル用透明導電性基材の製造方法。
IPC (7件):
G06F 3/03 310 ,  B32B 9/00 ,  C08J 7/06 CER ,  C08J 7/06 CEZ ,  G06F 3/033 360 ,  H01B 5/14 ,  C08L101:00
FI (7件):
G06F 3/03 310 C ,  B32B 9/00 A ,  C08J 7/06 CER ,  C08J 7/06 CEZ B ,  G06F 3/033 360 H ,  H01B 5/14 A ,  C08L101:00
Fターム (49件):
4F006AA40 ,  4F006AB24 ,  4F006AB74 ,  4F006BA02 ,  4F006BA05 ,  4F006BA07 ,  4F006CA08 ,  4F006DA04 ,  4F100AA33B ,  4F100AK01A ,  4F100AK55 ,  4F100AT00A ,  4F100BA02 ,  4F100EH46 ,  4F100EH462 ,  4F100EH66 ,  4F100EH662 ,  4F100EJ08 ,  4F100EJ082 ,  4F100EJ42 ,  4F100EJ422 ,  4F100EJ54 ,  4F100EJ542 ,  4F100EJ59 ,  4F100EJ592 ,  4F100EJ86 ,  4F100EJ862 ,  4F100GB41 ,  4F100JA11B ,  4F100JB01 ,  4F100JB06 ,  4F100JB07 ,  4F100JD01B ,  4F100JJ03 ,  4F100JK16 ,  4F100JK16B ,  4F100JM02B ,  4F100JN01B ,  5B068AA01 ,  5B068AA33 ,  5B068BC07 ,  5B087AA04 ,  5B087CC13 ,  5B087CC14 ,  5G307FA02 ,  5G307FB01 ,  5G307FC01 ,  5G307FC02 ,  5G307FC04
引用特許:
審査官引用 (7件)
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