特許
J-GLOBAL ID：200903069409315980

浸漬型基板処理装置

発明者：
廣江 敏朗

廣江 敏朗 について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


代理人 (1件)： 小野 由己男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-142443
公開番号（公開出願番号）：特開平11-340176
出願日： 1998年05月25日
公開日（公表日）： 1999年12月10日
要約：
【要約】【課題】 基板処理の均一性を確保しつつ、純水置換にかかる時間を短縮させる。【解決手段】 基板処理装置は、基板処理槽19と、層流パイプ30と、乱流パイプ40とを備えている。基板処理槽19は、基板Wを収容して、貯留した処理液によって基板Wに対して処理を施す。この基板処理槽19は、処理液が溢れ流れる外槽21を有している。層流パイプ30は、基板処理槽19内へ薬液を供給するもので、基板処理槽19内に吹き出し口を有している。乱流パイプ40は、純水を、薬液よりも速い流速で基板処理槽19内へ供給するものであり、基板処理槽19内に吹き出し口を有している。
請求項（抜粋）：
処理液が溢れ流れるオーバーフロー部を有し、貯留した処理液によって収容した基板に対して処理を施す処理槽と、前記処理槽内に吹き出し口を有し、前記処理槽内へ第1処理液を供給する第1処理液供給手段と、前記処理槽内に吹き出し口を有し、前記第1処理液供給手段から供給される第1処理液よりも速い流速で第2処理液を前記処理槽内へ供給する第2処理液供給手段と、を備えた浸漬型基板処理装置。
IPC (2件)：
H01L 21/304 642 ,  B08B 3/04
FI (2件)：
H01L 21/304 642 A ,  B08B 3/04 Z
引用特許：
審査官引用 (4件)
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