フォトマスク構造体、露光方法及び露光装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：田治米登 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-356454
公開番号（公開出願番号）：特開2003-156836
出願日： 2001年11月21日
公開日（公表日）： 2003年05月30日
要約：

【要約】【課題】 157nmの光リソグラフィ技術、電子線リソグラフィ技術及びEUVリソグラフィ技術に適用可能なフォトマスクに対し、フォトマスクを製造した後、納品時や保管時、ステッパーへの装着時などに異物が露光パターン領域に付着することを防止し、且つ露光の際には露光パターン領域上に遮蔽物が存在しないようにする。【解決手段】フォトマスク基板11に露光パターン領域12が形成されたフォトマスク本体10と露光パターン領域12を保護するための保護カバー20とからなるフォトマスク構造体において、保護カバー20をフォトマスク本体10に脱着可能に取り付ける。

請求項（抜粋）：

フォトマスク基板に露光パターン領域が形成されたフォトマスク本体と露光パターン領域を保護するための保護カバーとからなるフォトマスク構造体であって、保護カバーがフォトマスク本体に脱着可能に取り付けられているフォトマスク構造体。

IPC (4件)：

G03F 1/14 , G03F 1/08 , G03F 7/20 521 , H01L 21/027

FI (7件)：

G03F 1/14 M , G03F 1/08 Z , G03F 7/20 521 , H01L 21/30 502 P , H01L 21/30 515 F , H01L 21/30 531 M , H01L 21/30 541 S

Fターム (13件)：

2H095BA01 , 2H095BB30 , 2H095BC38 , 2H095BC39 , 5F046AA21 , 5F046BA03 , 5F046CB17 , 5F046CD04 , 5F046GA03 , 5F046GD04 , 5F046GD07 , 5F056AA22 , 5F056FA05

引用特許：

審査官引用 (5件)

特開昭63-080257
ペリクル
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-043264 出願人：信越化学工業株式会社
電子線投影露光装置及びX線投影露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-193993 出願人：株式会社ニコン

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