特許
J-GLOBAL ID：200903008006988004

電子線投影露光装置及びX線投影露光装置

発明者：
神高 典明

神高 典明 について

, 
近藤 洋行

近藤 洋行 について


出願人/特許権者：
株式会社ニコン

株式会社ニコン について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-193993
公開番号（公開出願番号）：特開平11-040479
出願日： 1997年07月18日
公開日（公表日）： 1999年02月12日
要約：
【要約】【課題】 露光用のマスク等にゴミが付着することを防止して、その結果、露光における歩留りとスループットの向上を達成することができる電子線投影露光装置及びX線投影露光装置を提供すること。【解決手段】 複数のマスク等(マスクまたはレチクル)304 を保管したローダー341 から、露光に使用するマスク等を取り出して露光用ステージ331 に載置し、該ステージ上のマスク等に電子線を照射して電子光学系332 によって投影することにより、パターン露光を行う電子線投影露光装置において、前記ローダー341 内にあるマスク等304 の表面法線方向が水平または略水平な方向となるように、前記マスク等を保持する機構を設けたことを特徴とする電子線投影露光装置。
請求項（抜粋）：
複数のマスク等(マスクまたはレチクル)を保管したローダーから、露光に使用するマスク等を取り出して露光用ステージに載置し、該ステージ上のマスク等に電子線を照射して電子光学系によって投影することにより、パターン露光を行う電子線投影露光装置において、前記ローダー内にあるマスク等の表面法線方向が水平または略水平な方向となるように、前記マスク等を保持する機構を設けたことを特徴とする電子線投影露光装置。
IPC (4件)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 503 ,  G21K 5/02 ,  G21K 5/04
FI (6件)：
H01L 21/30 541 S ,  G03F 7/20 503 ,  G21K 5/02 X ,  G21K 5/04 M ,  H01L 21/30 503 D ,  H01L 21/30 531 A
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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