特許
J-GLOBAL ID：200903069549180987

真空吸着装置

発明者：
佐藤 伸也

佐藤 伸也 について

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小倉 知之

小倉 知之 について

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梅木 亜希子

梅木 亜希子 について

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塩貝 達也

塩貝 達也 について


出願人/特許権者：
太平洋セメント株式会社

太平洋セメント株式会社 について


代理人 (1件)： 高山 宏志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-278719
公開番号（公開出願番号）：特開2006-093492
出願日： 2004年09月27日
公開日（公表日）： 2006年04月06日
要約：
【課題】 吸着面の平坦度が良好で、耐久性に優れ、しかも製造が容易な真空吸着装置を提供する。【解決手段】 真空吸着装置10は、半導体ウエハWを吸着保持するための、セラミックス/ガラス複合多孔体からなる載置部11および該載置部11の外周に設けられたセラミックス/ガラス複合多孔体からなる環状載置部12と、載置部11の気孔に連通する吸引孔14を備え、載置部11および環状載置部12を支持する支持部13と、を具備する。載置部11と環状載置部12が実質的に隙間なく直接に接合された構造とした。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
被吸着体を吸着保持するための、セラミックス/ガラス複合多孔体からなる載置部および当該載置部の外周に当該載置部と実質的に隙間なく直接に接合されたセラミックス/ガラス複合多孔体からなる環状載置部と、 前記載置部の気孔に連通する吸引孔を備え、前記載置部および前記環状載置部を支持する支持部と、 を具備することを特徴とする真空吸着装置。
IPC (1件)：
H01L 21/683
FI (1件)：
H01L21/68 P
Fターム (8件)：
5F031CA02 ,  5F031CA05 ,  5F031HA02 ,  5F031HA03 ,  5F031HA10 ,  5F031HA13 ,  5F031HA14 ,  5F031PA30
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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