熱処理装置および熱処理方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：岩橋文雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-304860
公開番号（公開出願番号）：特開2000-130952
出願日： 1998年10月27日
公開日（公表日）： 2000年05月12日
要約：

【要約】【課題】被処理基板の大口径化、大型化に対応した熱処理装置における加熱ばらつきの増大の抑制や、熱処理時の被処理基板からのアウトガスによる影響を除去する熱処理装置と熱処理方法を実現する。【解決手段】被処理基板11を搬送ベルト13の積載位置13aに積載し、搬送ベルト13を搬送方向14aへ搬送する。搬送ベルト13の移動によって積載位置13aの裏面に取り付けている自転ギア15はガイドギア17により積載位置13aを回転し、加熱源12の下を被処理基板11は回転しながら搬送される。均熱性の悪い加熱源の下でも被処理基板が回転しながら通過することで、加熱処理での被処理基板面内の温度ばらつきを分散させることになり、被処理基板における均一な加熱処理を実現する。

請求項（抜粋）：

加熱源と、同加熱源で形成される加熱処理領域中を被処理基板を回転させながら通過させる搬送機構とを有することを特徴とする熱処理装置。

IPC (3件)：

F27B 9/24 , F27B 9/36 , H01L 21/027

FI (3件)：

F27B 9/24 E , F27B 9/36 , H01L 21/30 567

Fターム (10件)：

4K050AA02 , 4K050BA16 , 4K050CA07 , 4K050CA09 , 4K050CC10 , 4K050CD22 , 4K050CG09 , 4K050EA05 , 5F046KA02 , 5F046KA08

引用特許：

審査官引用 (15件)

特開平3-217788
特開平3-217788
特開平2-070614

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