磁気駆動装置を有する基板移送シャトル

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：長谷川芳樹 (外1名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-550768
公開番号（公開出願番号）：特表2002-516243
出願日： 1999年05月13日
公開日（公表日）： 2002年06月04日
要約：

【要約】半導体製造装置においてチャンバ間の直線経路に沿って基板移送シャトルを移動するための磁気駆動システムが提供される。ラック磁石を持つラックは、シャトルに固着され、ピニオン磁石を持つ回転可能なピニオンは、ラックに隣接して位置決めされ、それにより、ピニオン磁石はラック磁石と磁気的に係合できる。従って、ピニオンの回転は、シャトルを直線経路に沿って移動させるであろう。磁石は、その主軸とピニオンの回転の軸との間に螺旋角を持ち配向されてもよい。ひとつのラックおよびひとつのピニオンが、シャトルの各側面に配置される。一組の下側案内ローラはシャトルを支持し、一組の上側案内ローラは、シャトルが下側案内ローラから離れ持上がることを阻止する。

請求項（抜粋）：

基板上で薄膜製造プロセスを実行するための装置であって、第1のチャンバと、前記第1のチャンバと連通する第2のチャンバと、前記第1のチャンバと前記第2のチャンバとの間の経路に沿い移動可能な基板支持体と、前記基板支持体上の、第1の磁界を生成する第1の磁気表面、および前記第1のチャンバと前記第2のチャンバの外側に配置され第2の磁界を生成する第2の磁気表面を含み、前記第1の磁界は前記第2の磁界と磁気的に係合可能であり、それにより、前記第2の磁界の移動が前記基板支持体を前記経路に沿い移動させる、磁気駆動部とを備える装置。

IPC (2件)：

B65G 49/06 , H01L 21/68

FI (3件)：

B65G 49/06 Z , H01L 21/68 A , H01L 21/68 U

Fターム (15件)：

5F031CA05 , 5F031FA02 , 5F031FA07 , 5F031FA12 , 5F031GA53 , 5F031GA57 , 5F031HA08 , 5F031HA33 , 5F031JA01 , 5F031LA11 , 5F031MA03 , 5F031MA28 , 5F031MA29 , 5F031NA13 , 5F031PA18

引用特許：

審査官引用 (4件)

インライン式成膜装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-099648 出願人：アネルバ株式会社
特開昭59-053320
螺旋状の磁気的な直線移動機構
公報種別：公表公報出願番号：特願平7-504546 出願人：マティリアルズリサーチコーポレイション

全件表示

前のページに戻る