特許

J-GLOBAL ID：200903069773293371

研磨スラリー

発明者： 三好 隆志 ,  高谷 裕浩 ,  小久保 研 ,  松林 賢司 ,  大島 巧
出願人/特許権者： 国立大学法人大阪大学
代理人 (2件)： 森下 賢樹 ,  三木 友由
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2006316096
公開番号（公開出願番号）：WO2007-020939
出願日： 2006年08月16日
公開日（公表日）： 2007年02月22日
要約：

導体または金属の研磨に用いられる研磨スラリーであって、水と、フラーレンまたはフラーレン誘導体とを含有し、フラーレンまたはフラーレン誘導体の粒径が100nm未満であることを特徴とする。フラーレンまたはフラーレン誘導体の粒径を100nm未満とすることにより、20μm四方で2nm以下の平坦性を実現することができる。

請求項（抜粋）：

半導体または金属の研磨に用いられる研磨スラリーであって、 水と、フラーレンまたはフラーレン誘導体とを含有し、 前記フラーレンまたは前記フラーレン誘導体の粒径が100nm未満であることを特徴とする研磨スラリー。

IPC (3件)：

H01L 21/304 ,  B24B 37/00 ,  C09K 3/14

FI (5件)：

H01L21/304 622B ,  H01L21/304 622D ,  H01L21/304 622X ,  B24B37/00 H ,  C09K3/14 550C

Fターム (6件)：

3C058AA04 ,  3C058AA07 ,  3C058CB01 ,  3C058DA02 ,  3C058DA12 ,  3C058DA17

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 銅系金属研磨スラリー
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-225734   出願人：NECエレクトロニクス株式会社, 東京磁気印刷株式会社