微細構造体の製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：稲葉良幸 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-182106
公開番号（公開出願番号）：特開2003-307604
出願日： 2002年06月21日
公開日（公表日）： 2003年10月31日
要約：

【要約】【課題】精度の良い開口形状と滑らかな曲面とを備えた微細な反射形状により形成される反射体を、レーザ光を用いた製造方法により製造可能とする。【解決手段】レーザ光79によりフォトレジスト層82に潜像58を露光する際に、レーザ光79の焦点Fを、解像度が必要な開口形状23が位置するレジスト層82の表面82aに合わせる。これにより、解像度の必要な開口形状23の近傍は、解像度が高く形成され、滑らかな表面が必要な曲面部分24は、高周波成分やトラック筋がフィルタリングされなだらかに形成され、反射効率の高い反射体を得ることができる。

請求項（抜粋）：

開口形状を構成する凸または凹の面を備えた微細パターンを形成するように強度変調されたレーザ光を感光性樹脂の層に照射する際に、前記レーザ光の焦点位置を前記感光性樹脂の層の前記開口形状が位置する深さに合わせて前記感光性樹脂の層を露光する工程と、その感光性樹脂層を現像する工程とを有する微細構造体の製造方法。

IPC (5件)：

G02B 5/08 , G02B 3/00 , G02F 1/1335 , G02F 1/1335 520 , H01L 27/14

FI (5件)：

G02B 5/08 C , G02B 3/00 A , G02F 1/1335 , G02F 1/1335 520 , H01L 27/14 D

Fターム (27件)：

2H042BA03 , 2H042BA15 , 2H042BA20 , 2H042DA01 , 2H042DA11 , 2H042DC01 , 2H042DC08 , 2H042DC12 , 2H091FA14Z , 2H091FA26Z , 2H091FA29Z , 2H091FA41Z , 2H091FC06 , 2H091FC10 , 2H091FC23 , 2H091FC26 , 2H091FC29 , 2H091GA01 , 2H091GA02 , 2H091GA03 , 2H091LA11 , 2H091LA18 , 2H091LA30 , 4M118AA10 , 4M118AB01 , 4M118EA01 , 4M118GD20

引用特許：

審査官引用 (9件)

感光性ポリイミドのパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-075588 出願人：シャープ株式会社
特表平5-509416
特開平3-192341

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