特許
J-GLOBAL ID：200903069830791235
ラメラー型回折格子及びその設計方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小林 良平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-365564
公開番号（公開出願番号）：特開2004-198641
出願日： 2002年12月17日
公開日（公表日）： 2004年07月15日
要約：
【課題】ラメラー型回折格子の溝断面形状を効率的に設計する。【解決手段】厳密結合波解析法における周期構造内部の電磁場の平面波成分の伝播定数に着目し、まずTE偏光に対して伝播定数の虚部の変化が大きくなるような格子周期のデューティ比を探索する(S11)。その転移点では、TE偏光において高い回折効率が得られ、しかも、溝深さを或る範囲で変化させてもその高効率が維持される。そこで、デューティ比をそこに固定した上で(ステップS12)、TE偏光に関して高い回折効率が維持される幅広い溝深さの範囲において、TM偏光の回折効率が高くなる溝深さ探索する(S13)。これにより、デューティ比と溝深さとが決まり(S14)、偏光に依らずに高い回折効率を達成することができる。【選択図】 図4
請求項（抜粋）：
溝断面形状が矩形状であるラメラー型の反射型回折格子において、
所定波長の光が所定入射角で格子溝面に入射したときに回折波が0次光及び-1次光のみであり、該-1次回折光は入射波と正対する方向に反射されるという条件の下で、
厳密結合波解析における周期構造内部の電磁場の平面波成分の伝播定数に着目し、まずTE偏光に対して前記伝播定数の虚部がゼロ値近傍から非ゼロ値へと転移するような格子周期のデューティ比を探索し、次いで格子周期のデューティ比をその近傍に設定して、TE偏光の回折効率が高くなるような溝深さ範囲内で、TM偏光の回折効率が高くなる溝深さを見い出すことにより、格子周期のデューティ比及び溝深さを決定したこと、を特徴とするラメラー型回折格子。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (5件)：
2H049AA03
, 2H049AA07
, 2H049AA53
, 2H049AA58
, 2H049AA63
