特許
J-GLOBAL ID:200903069865072983

水素選択透過膜およびその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 米田 潤三 ,  皿田 秀夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-125698
公開番号(公開出願番号):特開2009-273977
出願日: 2008年05月13日
公開日(公表日): 2009年11月26日
要約:
【課題】水素精製において優れた水素透過効率を示す水素選択透過膜と、このような水素選択透過膜を簡便に製造するための製造方法を提供する。【解決手段】水素選択透過膜(1)を、貫通孔(3)を複数有する金属支持体(2)と、この金属支持体(2)の一方の面に貫通孔(3)を覆うように配設されたPd合金膜(4)とを備えたものとし、Pd合金膜(4)は金属支持体(2)側から厚さが0.1〜2μmの範囲内の下地層(5)と厚さが0.1〜20μmの範囲内の表面層(6)とが積層された構造とし、表面層(6)は実測表面積Sと測定領域面積Aとの比S/Aが2以上のものとする。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
貫通孔を複数有する金属支持体と、該金属支持体の一方の面に前記貫通孔を覆うように配設されたPd合金膜とを備え、該Pd合金膜は金属支持体側から厚さが0.1〜2μmの範囲内の下地層と厚さが0.1〜20μmの範囲内の表面層とが積層された構造であり、該表面層は実測表面積Sと測定領域面積Aとの比S/Aが2以上であることを特徴とする水素選択透過膜。
IPC (6件):
B01D 71/02 ,  C25D 7/00 ,  B01D 69/12 ,  B01D 69/10 ,  C01B 3/56 ,  H01M 8/06
FI (6件):
B01D71/02 500 ,  C25D7/00 Y ,  B01D69/12 ,  B01D69/10 ,  C01B3/56 A ,  H01M8/06 R
Fターム (35件):
4D006GA41 ,  4D006MA08 ,  4D006MA09 ,  4D006MA31 ,  4D006MA40 ,  4D006MB15 ,  4D006MC02X ,  4D006NA46 ,  4D006NA49 ,  4D006NA50 ,  4D006NA54 ,  4D006PA01 ,  4D006PB66 ,  4D006PB67 ,  4D006PC69 ,  4D006PC80 ,  4G140FA02 ,  4G140FB04 ,  4G140FC01 ,  4G140FE01 ,  4K024AA24 ,  4K024AB02 ,  4K024BA04 ,  4K024BB28 ,  4K024BC01 ,  4K024DA07 ,  4K024FA05 ,  4K024GA16 ,  5H026AA06 ,  5H026BB04 ,  5H026CX04 ,  5H027AA06 ,  5H027BA01 ,  5H027BA16 ,  5H027MM12
引用特許:
出願人引用 (2件) 審査官引用 (4件)
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