位相シフトマスクの検査装置及び検査方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴木章夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-314010
公開番号（公開出願番号）：特開平8-146592
出願日： 1994年11月24日
公開日（公表日）： 1996年06月07日
要約：

【要約】【目的】高精度な操作が要求されることなく高精度に位相差量を測定することが可能な位相シフトマスクの検査装置と検査方法を得る。【構成】透明基板上にマクスパターン形成材によりマスクパターン1aが回折格子として形成されたマスク1を用い、マスク1上の回折格子パターンに光源11からの高干渉度光を照明し、回折格子パターンにより回折された回折光をレンズ17により集光し、集光された回折光の強度を複数の検出器19a〜19cにより検出し、処理回路20では検出された各回折次数の回折光の強度比により、マスクパターン形成材間の位相差量を計算する。

請求項（抜粋）：

透明基板上にマクスパターン形成材によりマスクパターンが形成され、このマスクパターンを透過する光と、他の部分を透過した光の位相差を検出するための装置であって、前記マスクとして前記マスクパターン形成材により回折格子を形成したマスクを載置するステージと、このマスクの回折格子に対して高干渉度光を照射する手段と、前記回折格子により回折された回折光を集光する手段と、集光された回折光の強度を検出するための複数個の検出器と、前記各検出器で検出された回折光の強度比に基づいて前記マクスパターン形成材間の位相差量を算出する処理回路とを備えることを特徴とする位相シフトマスクの検査装置。

IPC (4件)：

G03F 1/08 , G01N 21/41 , G01N 21/88 , H01L 21/027

FI (3件)：

H01L 21/30 502 V , H01L 21/30 502 P , H01L 21/30 528

引用特許：

審査官引用 (7件)

特開平3-200149
特開平4-229863
特開平4-181251

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