特許
J-GLOBAL ID：200903069912455136
液晶素子の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
渡辺 徳廣
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-356771
公開番号（公開出願番号）：特開平10-197867
出願日： 1996年12月27日
公開日（公表日）： 1998年07月31日
要約：
【要約】【課題】 液晶素子毎のプレチルト角が安定して設計値となるような液晶素子の製造方法を提供する。【解決手段】 夫々電極及び配向膜を備えた一対の基板間に液晶を挟持してなる液晶素子を複数製造する方法において、複数の基板について各基板上に形成された配向膜をラビング処理する工程であって、一基板のラビング処理後の該配向膜の表面エネルギーを測定し、該表面エネルギーの値に応じてラビング処理の条件を制御しながら処理を行う工程を具備してなる液晶素子の製造方法。
請求項（抜粋）：
夫々電極及び配向膜を備えた一対の基板間に液晶を挟持してなる液晶素子を複数製造する方法において、複数の基板について各基板上に形成された配向膜をラビング処理する工程であって、一基板のラビング処理後の該配向膜の表面エネルギーを測定し、該表面エネルギーの値に応じてラビング処理の条件を制御しながら処理を行う工程を具備してなることを特徴とする液晶素子の製造方法。
IPC (2件)：
G02F 1/1337 500
, G02F 1/1337 510
G02F 1/1337 500
, G02F 1/1337 510
