特許
J-GLOBAL ID：200903069957405849

ホログラム、及びホログラムを用いた光学素子の製造方法

発明者：
ヘツラー、ヨヘン

ヘツラー、ヨヘン について

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ベデール、スザンヌ

ベデール、スザンヌ について

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フェルドマン、ヘイコ

フェルドマン、ヘイコ について


出願人/特許権者：
カール・ツァイス・エスエムティー・アーゲー

カール・ツァイス・エスエムティー・アーゲー について


代理人 (1件)： 特許業務法人池内・佐藤アンドパートナーズ
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-551625
公開番号（公開出願番号）：特表2008-528955
出願日： 2006年01月20日
公開日（公表日）： 2008年07月31日
要約：
光学素子(5)の製造方法は、光学素子の光学面(3)に測定光(23a)を導く干渉計1aを用いて、光学面を検査する工程を含む。測定光は、光学面の上流にある測定光のビーム経路に配置された2つのホログラム(44、48)を順次に横切る。
請求項（抜粋）：
目標とする非球面形状の光学面を有する光学素子の製造方法であって、 測定光のビームを生成する工程と、 前記測定光が反射面に対して実質的に垂直に入射するように前記測定光のビームを前記反射面上へ導く工程であって、前記光学面と第1のホログラムとが前記測定光のビーム経路に互いに離間して配置され、第2のホログラムが前記光学面と前記第1のホログラムとの間の前記測定光の前記ビーム経路に配置される工程と、 参照光と、前記反射面で反射され、前記光学面と相互作用し、前記第1のホログラムによって回折され、前記第2のホログラムによって回折された前記測定光とを重ね合わせることにより、少なくとも1つの干渉測定を行う工程と、 前記少なくとも1つの干渉測定に基づいて、前記光学面の、その目標とする形状からのずれを決定する工程と、 前記決定されたずれに基づいて、前記光学素子の前記光学面を加工する工程とを含むことを特徴とする方法。
IPC (4件)：
G01M 11/00 ,  G02B 5/18 ,  G02B 5/32 ,  G01B 11/24
FI (5件)：
G01M11/00 M ,  G02B5/18 ,  G02B5/32 ,  G01M11/00 L ,  G01B11/24 D
Fターム (21件)：
2F065AA51 ,  2F065CC22 ,  2F065FF48 ,  2F065FF51 ,  2F065HH04 ,  2F065LL04 ,  2F065LL42 ,  2F065QQ25 ,  2G086FF01 ,  2G086FF03 ,  2G086GG00 ,  2H049AA03 ,  2H049AA55 ,  2H049AA63 ,  2H049CA05 ,  2H049CA24 ,  2H249AA03 ,  2H249AA55 ,  2H249AA63 ,  2H249CA05 ,  2H249CA24
引用特許：
出願人引用 (5件)
  • 米国特許第4,732,483号明細書
  • 米国特許第4,340,306号明細書
  • 米国特許第5,473,434号明細書
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審査官引用 (6件)
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