マルチビーム走査装置およびマルチビーム走査装置の光源装置および光源ユニット

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：樺山亨 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-256352
公開番号（公開出願番号）：特開平11-095139
出願日： 1997年09月22日
公開日（公表日）： 1999年04月09日
要約：

【要約】【課題】マルチビーム走査装置における、温度上位に伴う主走査のライン間隔の変動を有効に防止・軽減し、光源装置の組立て性を向上させる。【解決手段】複数個の半導体レーザ101,102と、複数のカップリングレンズ103,104と、ビーム合成手段1051,1052とを固定的に保持するホルダ60とを有し、ホルダ60は、複数の半導体レーザを固定的に保持する板状基部61と、この板状基部に保持された半導体レーザの配列方向に平行で、板状基部61に略直交するように張り出した棚状部62とを有する一体構造で、棚状部62に複数のカップリングレンズ103,104とビーム合成手段1051,1052とを固設され、棚状部62が、板状基部61における棚状部幅方向の弾性変形を防止するようにした。

請求項（抜粋）：

複数の発光部からの複数のビームを共通の光学系を介して被走査面に導き、副走査方向に互いに分離した複数のスポットとして集光せしめ、上記光学系に含まれる光偏向器により上記複数ビームを同時に偏向せしめ、上記複数のスポットにより複数ラインを同時走査する方式のマルチビーム走査装置において、複数個の半導体レーザと、各半導体レーザに対応し、対応する半導体レーザからのビームを以後の光学系にカップリングする複数のカップリングレンズと、これらカップリングレンズによりカップリングされた複数のビームを合成するビーム合成手段と、上記複数個の半導体レーザと、複数のカップリングレンズと、ビーム合成手段とを固定的に保持するホルダとを有し、該ホルダは、上記複数の半導体レーザを固定的に保持する板状基部と、この板状基部に保持された半導体レーザの配列方向に平行で、上記板状基部に略直交するように張り出した棚状部とを有する一体構造で、上記棚状部に上記複数のカップリングレンズとビーム合成手段とを固設され、上記棚状部が、上記板状基部における棚状部幅方向の弾性変形を防止するようにしたことを特徴とするマルチビーム走査装置の光源ユニット。

引用特許：

出願人引用 (6件)

マルチビーム走査装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-302036 出願人：株式会社リコー
半導体レーザ光源装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-216800 出願人：株式会社リコー
マルチビーム走査装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-327146 出願人：株式会社リコー

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