測定装置および方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：稲葉良幸 , 大賀眞司 , 大貫敏史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-249522
公開番号（公開出願番号）：特開2008-091907
出願日： 2007年09月26日
公開日（公表日）： 2008年04月17日
要約：

【課題】リソグラフィ動作を妨害せずに、リソグラフィ動作中にリアルタイムでイルミネータの個別制御可能要素アレイの個別制御可能要素の傾き角を決定できる測定装置を提供する。【解決手段】測定放射ビームを供給する放射源であって、放射ビームを変調することができる個別制御可能要素アレイの個別制御可能要素が前記測定ビームにより照明され、かつ前記測定ビームを再誘導する、放射源と、前記再誘導された測定ビームを受光し、かつ前記再誘導された測定ビームが入射する位置を決定するディテクタであって、前記再誘導された測定ビームが前記ディテクタに入射する位置は前記個別制御可能要素の特性を示す、ディテクタとを有する。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

測定放射ビームを供給する放射源であって、放射ビームを変調することができる個別制御可能要素アレイの個別制御可能要素が前記測定ビームにより照明され、かつ前記測定ビームを再誘導する、放射源、および前記再誘導された測定ビームを受光し、かつ前記再誘導された測定ビームが入射する位置を決定するディテクタであって、前記再誘導された測定ビームが前記ディテクタに入射する位置は前記個別制御可能要素の特性を示す、ディテクタを含む、測定装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 , G01B 11/00 , G01B 11/26

FI (4件)：

H01L21/30 529 , G03F7/20 521 , G01B11/00 H , G01B11/26 H

Fターム (21件)：

2F065AA07 , 2F065AA19 , 2F065AA31 , 2F065FF04 , 2F065GG03 , 2F065GG04 , 2F065GG07 , 2F065HH04 , 2F065JJ03 , 2F065JJ05 , 2F065JJ26 , 2F065LL12 , 2F065LL18 , 2F065QQ31 , 5F046BA07 , 5F046CB02 , 5F046DA01 , 5F046DA02 , 5F046DB01 , 5F046DC01 , 5F046DC02

引用特許：

審査官引用 (9件)

リソグラフィ装置およびデバイス製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2005-330924 出願人：エイエスエムエルネザランドズベスローテンフエンノートシャップ
パターン描画装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-056953 出願人：大見忠弘, ボールセミコンダクターインク.
アレイ型露光素子及び平面型ディスプレイ
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-075849 出願人：富士写真フイルム株式会社

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