特許
J-GLOBAL ID:200903070188535058
粉体膜形成装置
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (2件):
北村 修一郎
, 山▲崎▼ 徹也
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-189824
公開番号(公開出願番号):特開2008-018299
出願日: 2006年07月10日
公開日(公表日): 2008年01月31日
要約:
【課題】粉体膜を形成するに際して粉体原料の凝集をより効果的に抑制しながら、極めて微小なサイズの粒子を用いて基板表面に均質な粉体膜を形成できる粉体膜形成装置を提供する。【解決手段】粉体原料mを微粒子化すべく、粉体原料mを収容保持する処理容器2と処理容器2の内周面2aに近接配置した押圧部材1とが相対移動することにより、粉体原料mに機械的外力を付与して粉体原料mを微粉化する微粒子生成手段Bを備え、微粒子生成手段Bで生成された微粒子Cを付着させる基板Aを保持する基板保持手段4が、処理容器2の内周面2aの方向に沿って微粒子生成手段Bに隣接した位置に配置してある粉体膜形成装置X。【選択図】図1
請求項(抜粋):
粉体原料を微粒子化すべく、前記粉体原料を収容保持する処理容器と当該処理容器の内周面に近接配置した押圧部材とが相対移動することにより、前記粉体原料に機械的外力を付与して前記粉体原料を微粉化する微粒子生成手段を備え、
前記微粒子生成手段で生成された微粒子を付着させる基板を保持する基板保持手段が、前記処理容器の内周面の方向に沿って前記微粒子生成手段に隣接した位置に配置してある粉体膜形成装置。
IPC (3件):
B05C 19/04
, B02C 19/10
, C23C 24/04
FI (3件):
B05C19/04
, B02C19/10 B
, C23C24/04
Fターム (19件):
4D067CF06
, 4D067CF15
, 4D067GA07
, 4F042AA02
, 4F042AB06
, 4F042BA05
, 4F042BA19
, 4F042BA25
, 4F042DE00
, 4F042DE01
, 4F042DE07
, 4K044AA12
, 4K044BA12
, 4K044BB01
, 4K044BB11
, 4K044CA23
, 4K044CA27
, 4K044CA29
, 4K044CA71
引用特許:
出願人引用 (2件)
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エアロゾルデポジッション成膜装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2003-399973
出願人:富士通株式会社, 独立行政法人産業技術総合研究所
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粉体膜形成装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2004-340079
出願人:株式会社ホソカワ粉体技術研究所
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