特許
J-GLOBAL ID:200903057207629550
粉体膜形成装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (2件):
北村 修一郎
, 山▲崎▼ 徹也
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-340079
公開番号(公開出願番号):特開2006-150160
出願日: 2004年11月25日
公開日(公表日): 2006年06月15日
要約:
【課題】 粉体膜を形成するに際して特殊な制御や装置を必要とせず、かつ、極めて微小なサイズの粒子を用いて基板表面に均質な粉体膜を迅速に形成できる粉体膜形成装置を提供する。【解決手段】 粉体原料mに、機械的外力を付与して微粒子Cを生成する微粒子生成手段50と、微粒子Cを付着させて表面に粉体膜Fを形成する基板4を保持する基板保持手段4aと、微粒子生成手段50および基板保持手段4aを内部に設けた処理室70と、微粒子Cの基板4への搬送状態を制御する搬送制御手段40を備える。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
粉体原料に、機械的外力を付与して微粒子を生成する微粒子生成手段と、前記微粒子を付着させて表面に粉体膜を形成する基板を保持する基板保持手段と、前記微粒子生成手段および前記基板保持手段を内部に設けた処理室と、前記微粒子の基板への搬送状態を制御する搬送制御手段とを設けてある粉体膜形成装置。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (11件):
4D067CF05
, 4D067CF15
, 4D067EE07
, 4F042BA12
, 4F042BA19
, 4F042CB07
, 4F042CB18
, 4F042CC07
, 4F042DB17
, 4F042DF32
, 4F042DF34
引用特許:
審査官引用 (9件)
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特開平2-241572
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化合物粒子の製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-291243
出願人:野城清
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特開昭62-132555
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