特許
J-GLOBAL ID:200903070198116967

ジルコニアゾルの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 鈴木 俊一郎 ,  牧村 浩次 ,  高畑 ちより
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-281822
公開番号(公開出願番号):特開2009-167085
出願日: 2008年10月31日
公開日(公表日): 2009年07月30日
要約:
【課題】ジルコニア微粒子に比して粒子径が小さく、焼成して凝集しても容易に高分散させることができる屈折率の高いジルコニア微粒子を提供する。【解決手段】下記の工程(a)〜(d)からなり、平均粒子径が5〜30nmの範囲にあるジルコニア微粒子が分散したジルコニアゾルの製造方法;(a)ジルコニウム化合物水溶液にアルカリ成分を加えてジルコニウム水酸化物ゲルの分散液を調製する工程、(b)前記ジルコニウム水酸化物ゲルを洗浄する工程、(c)前記洗浄したジルコニウム水酸化物ゲル分散液にアルカリ金属水酸化物水溶液および過酸化水素水溶液を添加してジルコニウム水酸化物ゲルを溶解する工程、(d)ついで、40〜300°Cで水熱処理する工程。【選択図】なし
請求項(抜粋):
下記の工程(a)〜(d)からなり、平均粒子径が5〜30nmの範囲にあるジルコニア微粒子が分散したジルコニアゾルの製造方法; (a)ジルコニウム化合物水溶液にアルカリ成分を加えてジルコニウム水酸化物ゲルの分散液を調製する工程 (b)前記ジルコニウム水酸化物ゲルを洗浄する工程 (c)前記洗浄したジルコニウム水酸化物ゲル分散液にアルカリ金属水酸化物水溶液および過酸化水素水溶液を添加してジルコニウム水酸化物ゲルを溶解する工程 (d)ついで、40〜300°Cで水熱処理する工程。
IPC (1件):
C01G 25/02
FI (1件):
C01G25/02
Fターム (5件):
4G048AA02 ,  4G048AB02 ,  4G048AC08 ,  4G048AD04 ,  4G048AE06
引用特許:
出願人引用 (13件)
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審査官引用 (9件)
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