特許
J-GLOBAL ID：200903070201919413

ビームホモジナイザーおよびレーザー照射装置

発明者：
田中 幸一郎

田中 幸一郎 について


出願人/特許権者：
株式会社半導体エネルギー研究所

株式会社半導体エネルギー研究所 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-052833
公開番号（公開出願番号）：特開2000-323428
出願日： 2000年02月29日
公開日（公表日）： 2000年11月24日
要約：
【要約】【課題】 線状レーザー光の長手方向のエネルギー分布を均一にする。【解決手段】ビームを分割するためのシリンドリカルレンズ群202、203と、分割されたビームを集光するためのシリンドリカルレンズ204、シリンドリカルレンズ群206を有するビームホモジナイザーにおいて、分割されたビームを集光するためのシリンドリカルレンズ群206の各シリンドリカルレンズを通過した線状ビームの長手方向の位相をずらしてから、合成することで、線状ビームの被照射面での干渉じまの強度を均一にする。
請求項（抜粋）：
1本のビームを第1の方向に(2n+ 1)本のビームに分割する第1の分割用光学レンズと、1本のビームを前記第1の方向と垂直な第2の方向にN(n-1)本のビームに分割する第2の分割用光学レンズと、前記第2の方向に集光して、前記第2の方向に分割された複数のビームを合成する第1の合成用レンズと、前記第1の方向に集光して、前記第1の方向に分割された複数のビームを合成する第2の合成用レンズと、を含んだビームホモジナイザーであって、前記第2の合成用レンズは(n' -1)個のシリンドリカルレンズでなり、前記(n' -1)個のシリンドリカルレンズのそれぞれの主点を前記第2の方向に直交する平面に正射影した像は、同一直線上にd/(n' -1)の間隔で並んだ(n' -1)個の点となり、前記dは、前記前記第2の合成用レンズの1つのシリンドリカルレンズを透過したビームが照射面で形成する干渉縞のピークの間隔であり、前記Nは自然数であり、前記nは3以上の整数であり、前記n' は3≦n' ≦nを満たす整数であることを特徴とするビームホモジナイザー。
IPC (3件)：
H01L 21/268 ,  G02B 27/09 ,  H01L 21/20
FI (3件)：
H01L 21/268 J ,  H01L 21/20 ,  G02B 27/00 E
引用特許：
審査官引用 (4件)
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