特許
J-GLOBAL ID：200903070521929999

研磨用組成物およびそれを用いたメモリーハードディスクの製造方法

発明者：
大橋 圭吾

大橋 圭吾 について


出願人/特許権者：
株式会社フジミインコーポレーテッド

株式会社フジミインコーポレーテッド について


代理人 (1件)： 佐々木 宗治 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-273502
公開番号（公開出願番号）：特開2001-098254
出願日： 1999年09月28日
公開日（公表日）： 2001年04月10日
要約：
【要約】【課題】 研磨速度が大きく、表面粗さが小さく、微小突起、微細なピットおよびその他の表面欠陥の発生防止が可能であり、経時変化による物性の安定化が図れ、長期保存性がよく、研磨能率の低下を抑制することのできる取り扱い性が改良された研磨用組成物を提供する。【解決手段】 含有量が0.1〜35重量%の範囲内のコロイダルシリカと、含有量が0.04〜2.2重量%の範囲内の硝酸鉄と、含有量が0.4〜22重量%の範囲内のクエン酸と、含有量が0.155〜9.3重量%の範囲内の過酸化水素と、水とを含んでなるメモリーハードディスクに使用されるサブストレートの研磨用組成物、および、その研磨用組成物を用いたメモリーハードディスクの製造方法である。
請求項（抜粋）：
メモリーハードディスクに使用される磁気ディスク用基盤の研磨用組成物であって、(a)含有量が組成物の全重量を基準にして0.1〜35重量%の範囲内の研磨材であるコロイダルシリカと、(b)含有量が組成物の全重量を基準にして0.04〜2.2重量%の範囲内の研磨促進剤である硝酸鉄と、(c)含有量が組成物の全重量を基準にして0.4〜22重量%の範囲内の安定剤であるクエン酸と、(d)含有量が組成物の全重量を基準にして0.155〜9.3重量%の範囲内の研磨促進助剤である過酸化水素と、(e)水とを含んでなる研磨用組成物。
IPC (4件)：
C09K 3/14 550 ,  C09K 3/14 ,  B24B 57/04 ,  G11B 5/84
FI (4件)：
C09K 3/14 550 D ,  C09K 3/14 550 Z ,  B24B 57/04 ,  G11B 5/84 A
Fターム (8件)：
3C047GG00 ,  5D112AA02 ,  5D112AA24 ,  5D112BA05 ,  5D112BA06 ,  5D112GA02 ,  5D112GA14 ,  5D112GA30
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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