特許
J-GLOBAL ID:200903070544901587

X線立体像撮影方法及び装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 板野 嘉男
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-364238
公開番号(公開出願番号):特開2000-237177
出願日: 1999年12月22日
公開日(公表日): 2000年09月05日
要約:
【要約】 (修正有)【課題】 X線被爆量が少なく、かつ、姿勢固定のための負担も小さいX線立体像撮影方法及び装置。【解決手段】 以下の1)〜4)の操作を含む。1)被写体を透過したX線の放射能面密度を微小な画素を面状に配したX線検出器で検出してこれをX線源画像として得る操作。2)特定の位置におけるX線照射位置から照射されるX線の放射能面密度を被写体が存在しないと仮定したときの放射能面密度で除したX線透過率を得る操作。3)他の全てのX線照射位置からX線透過率を求め、これに平均化処理を施してその値を当該観測点におけるX線透過係数として得る操作。4)被写体中の全ての観測点に対してX線透過係数を求め、これらX線透過係数の被写体中における分布をX線立体像として得る操作。
請求項(抜粋):
以下の1)〜4)の操作を有するX線立体像撮影方法。1)X線管からX線を被写体に照射し、被写体を透過したX線の放射能面密度を微小な画素を面状に配したX線検出器で検出してこれをX線源画像として得る操作を少なくともX線照射位置を種々変えて行い、各X線照射位置におけるX線源画像を得る操作。2)被写体中のある観測点に関し、特定の位置におけるX線照射位置から照射されてこの観測点を通るX線の放射能面密度を被写体が存在しないと仮定したときの放射能面密度で除したX線透過率を、当該照射位置に対応するX線源画像のうちの当該照射位置と観測点との位置から求まる画素より得る操作。3)他の全てのX線照射位置から上記2)の操作を行って当該観測点を通るX線透過率を求め、これに平均化処理を施してその値を当該観測点におけるX線透過係数として得る操作。4)被写体中の全ての観測点に対して上記2)及び3)の操作を行ってそれぞれの観測点におけるX線透過係数を求め、これらX線透過係数の被写体中における分布をX線立体像として得る操作。
IPC (2件):
A61B 6/02 303 ,  A61B 6/02 351
FI (2件):
A61B 6/02 303 M ,  A61B 6/02 351 C
引用特許:
審査官引用 (11件)
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