パターン欠陥検査方法及びその装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴江武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-323881
公開番号（公開出願番号）：特開2000-146857
出願日： 1998年11月13日
公開日（公表日）： 2000年05月26日
要約：

【要約】【課題】本発明は、欠陥として影響度の小さい欠陥の検出感度を低下して欠陥検査を行う。【解決手段】フォトマスク1を撮像して得られる検査パターンデータと設計パターンデータとを比較してフォトマスク1上の欠陥を検査する場合、データ比較回路30内に備えられた判定切替え回路により、欠陥検査を行っている位置を示す位置データが欠陥検査を行う検査エリア内に設定された複数のエリアのうちいずれかのエリアにあるかを判定し、この判定されたエリアに応じた検出感度を選択する。

請求項（抜粋）：

被検査体を撮像して得られる被検査データと予め設定された基準パターンとを比較して前記被検査体上の欠陥を検査するパターン欠陥検査方法において、前記欠陥検査を行う検査エリア内に設定された複数の領域ごとにそれぞれ検出感度を可変して前記欠陥の検査を行うことを特徴とするパターン欠陥検査方法。

IPC (4件)：

G01N 21/88 , G01B 11/30 , G06T 7/00 , H01L 21/66

FI (4件)：

G01N 21/88 645 A , G01B 11/30 A , H01L 21/66 J , G06F 15/62 405 A

Fターム (71件)：

2F065AA03 , 2F065AA12 , 2F065AA49 , 2F065BB02 , 2F065BB03 , 2F065CC19 , 2F065DD06 , 2F065FF01 , 2F065FF04 , 2F065FF67 , 2F065HH13 , 2F065HH15 , 2F065JJ03 , 2F065JJ09 , 2F065JJ26 , 2F065NN11 , 2F065PP12 , 2F065QQ03 , 2F065QQ07 , 2F065QQ08 , 2F065QQ13 , 2F065QQ23 , 2F065QQ25 , 2F065QQ29 , 2F065QQ47 , 2F065RR08 , 2F065RR09 , 2G051AA56 , 2G051AA90 , 2G051AB02 , 2G051AB20 , 2G051BA00 , 2G051CA03 , 2G051CA04 , 2G051CB02 , 2G051DA07 , 2G051EA08 , 2G051EA12 , 2G051EA14 , 2G051EB01 , 2G051EB02 , 2G051ED07 , 4M106AA09 , 4M106BA04 , 4M106CA39 , 4M106DB04 , 4M106DB30 , 4M106DJ13 , 4M106DJ14 , 4M106DJ38 , 5B057AA03 , 5B057BA02 , 5B057BA30 , 5B057CA12 , 5B057CA16 , 5B057CB12 , 5B057CB16 , 5B057CC02 , 5B057CH01 , 5B057CH05 , 5B057CH08 , 5B057CH12 , 5B057CH18 , 5B057DA03 , 5B057DA07 , 5B057DA08 , 5B057DA11 , 5B057DB02 , 5B057DC04 , 5B057DC16 , 5B057DC32

引用特許：

審査官引用 (4件)

マスク欠陥の検出方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-188984 出願人：ソニー株式会社
特開平2-236406
パターン評価装置およびパターン評価方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-221871 出願人：株式会社東芝, 株式会社トプコン

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