特許
J-GLOBAL ID：200903070809681380
パターン評価装置およびパターン評価方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-221871
公開番号（公開出願番号）：特開平8-087102
出願日： 1994年09月16日
公開日（公表日）： 1996年04月02日
要約：
【要約】【目的】本発明は、ペリクル付きマスクを用いても広い領域において高感度にパターンを評価することができる装置および方法を提供することを目的とする。【構成】光源からの光をパターンを有する試料上で集光させる集光手段と、前記試料の後段に配置されており、前記試料を透過した光が通る対物レンズと、前記対物レンズの後段に配置されており、前記対物レンズを通過した光の径を絞る開口部材と、前記開口部材の後段に配置されており、前記開口部材により絞られた光を受光する受光素子と、前記受光素子により受光された前記パターンに対応する情報に基づいて前記パターンを評価する判定手段とを具備し、前記開口部材は、前記試料におけるペチクルの有無に応じて開口数を変えることができることを特徴としている。
請求項（抜粋）：
光源からの光をパターンを有する試料上で集光させる集光手段と、前記試料の後段に配置されており、前記試料を透過した光が通る対物レンズと、前記対物レンズの後段に配置されており、前記対物レンズを通過した光の径を絞る開口部材と、前記開口部材の後段に配置されており、前記開口部材により絞られた光を受光する受光素子と、前記受光素子により受光された前記パターンに対応する情報に基づいて前記パターンを評価する判定手段と、を具備し、前記開口部材は、前記試料におけるペリクルの有無に応じて開口数を変えることができることを特徴とするパターン評価装置。
IPC (2件)：
引用特許：
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