微細精密部品あるいは光学部品のX線あるいは紫外線を用いた製造方法およびその製品

発明者： ,
出願人/特許権者： ,
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-105241
公開番号（公開出願番号）：特開2002-258490
出願日： 2001年02月27日
公開日（公表日）： 2002年09月11日
要約：

【要約】【課題】鏡面精度を有した微細精密部品の多量加工を高歩留まりで生産する事が困難である。【解決手段】フォトマスクにX線あるいは紫外線を照射してフォトレジストの塗布された被照射体を露光する構成をもった露光装置を用いて、被照射体と露光パタンの連続的あるいは離散的な相対的移動をともなって露光する工程と、フォトレジストを現像する工程と、該フォトレジストの厚さの違いを用いて、該フォトレジストの下層の物質の一部を除去して成形する工程と、をもつことを特徴とする微細精密部品あるいは光学部品のX線あるいは紫外線を用いた製造方法とする。

請求項（抜粋）：

フォトマスクにX線あるいは紫外線を照射してフォトレジストの塗布された被照射体を露光する構成をもった露光装置を用いて、被照射体と露光パタンの連続的あるいは離散的な相対的移動をともなって露光する工程と、フォトレジストを現像する工程と、該フォトレジストの厚さの違いを用いて、該フォトレジストの下層の物質の一部を除去して成形する工程と、をもつことを特徴とする微細精密部品あるいは光学部品のX線あるいは紫外線を用いた製造方法。

IPC (6件)：

G03F 7/20 503 , B41J 2/135 , G02B 3/00 , G02B 5/18 , G03F 7/095 , G03F 7/40 521

FI (6件)：

G03F 7/20 503 , G02B 3/00 A , G02B 5/18 , G03F 7/095 , G03F 7/40 521 , B41J 3/04 103 N

Fターム (35件)：

2C057AF93 , 2C057AG05 , 2C057AG14 , 2C057AP13 , 2C057AP22 , 2C057AP38 , 2C057AP46 , 2C057AP47 , 2H025AB14 , 2H025AB20 , 2H025AC01 , 2H025AC05 , 2H025AD01 , 2H025DA11 , 2H025FA39 , 2H049AA03 , 2H049AA13 , 2H049AA33 , 2H049AA37 , 2H049AA58 , 2H096AA28 , 2H096AA30 , 2H096BA05 , 2H096EA02 , 2H096EA07 , 2H096HA27 , 2H096HA30 , 2H097AA11 , 2H097AA20 , 2H097AB00 , 2H097CA12 , 2H097CA15 , 2H097FA09 , 2H097GA02 , 2H097LA15

引用特許：

審査官引用 (3件)

パターン形成方法、光学素子の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-352996 出願人：旭光学工業株式会社
X線照射を用いた材料の加工方法及び加工装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-202223 出願人：学校法人立命館
X線を用いた材料の加工方法及びその装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-347103 出願人：関西ティー・エル・オー株式会社

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