特許
J-GLOBAL ID:200903071099457422
質量分析装置
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (1件):
小林 良平
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-076686
公開番号(公開出願番号):特開2007-257851
出願日: 2006年03月20日
公開日(公表日): 2007年10月04日
要約:
【課題】分析目的に応じて繰り返し質量分析の回数を減らして作業効率を高めるとともに検出感度も高め、必要な場合には高い空間分解能での詳細な2次元物質分布測定も可能とする。【解決手段】試料15を載せた試料プレート14を載置する試料ステージ13をz軸方向に移動させる駆動機構13bを設け、照射径制御部31の制御の下に試料ステージ13を移動させてレーザ集光光学系22と試料15との間の距離を変化させることにより、試料15上でのレーザ照射径を変化させる。例えば、試料15中に局在するもののその位置が不明である目的物質の分布を調べたい場合に、まず大きなレーザ照射径で以て大きな走査ステップ幅で試料15全域をほぼ漏れなく走査し、目的物質が存在する位置をおおよそ見い出す。その後、レーザ照射径を縮小して、目的物質が存在すると推定される付近のみを小さなステップ幅で漏れなく走査して詳細な物質分布を得る。【選択図】図1
請求項(抜粋):
a)試料に含まれる成分をイオン化するために該試料にレーザ光を照射するレーザ照射手段と、
b)前記レーザ照射手段による前記試料上のレーザ照射位置を1次元的又は2次元的に走査するための走査手段と、
c)前記試料上のレーザ照射面積を変化させる照射範囲調整手段と、
d)前記レーザ照射により試料から発生したイオンを質量分離して検出する質量分析手段と、
を備えることを特徴とする質量分析装置。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (12件):
2G041CA01
, 2G041DA03
, 2G041DA04
, 2G041GA02
, 2G041GA03
, 2G041GA06
, 2G041GA08
, 2G041KA01
, 5C038GG07
, 5C038GH06
, 5C038GH10
, 5C038GH15
引用特許:
出願人引用 (1件)
審査官引用 (7件)
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大気圧レーザイオン化質量分析装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2003-135256
出願人:株式会社日立ハイテクノロジーズ
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レーザー脱離/イオン化質量分析用の光学ベンチ
公報種別:公表公報
出願番号:特願2000-619005
出願人:シファーゲンバイオシステムズ,インコーポレイテッド
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飛行時間型質量分析装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2003-186547
出願人:三菱重工業株式会社
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大気圧のマトリックス補助レーザ脱着装置
公報種別:公表公報
出願番号:特願2000-552704
出願人:ザ・レジェンツ・オブ・ザ・ユニバーシティー・オブ・カリフォルニア
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分析方法および装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-105746
出願人:株式会社日立製作所, 日立東京エレクトロニクス株式会社
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画像取得装置及び方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-103314
出願人:株式会社東芝
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質量分析計
公報種別:公表公報
出願番号:特願2007-547659
出願人:マイクロマスユーケーリミテッド
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