特許

J-GLOBAL ID：200903071109196681

ウエハー洗浄装置

発明者： 森 伸廣 ,  阿納 浩一郎 ,  久保 直樹
出願人/特許権者： 株式会社高田工業所
代理人 (1件)： 中前 富士男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-364881
公開番号（公開出願番号）：特開2002-170805
出願日： 2000年11月30日
公開日（公表日）： 2002年06月14日
要約：

【要約】【課題】 ウエハーの裏面外周部に付着する残液を完全に除去するための品質向上と装置の簡素化が図れるウエハー洗浄装置を提供する。【解決手段】 軸心を合わせて載置された実質的に円板状のウエハー11を吸着支持して回転駆動可能なテーブル12を上部に備えるウエハー支持機構13と、テーブル12に載置されるウエハー11の外径Dより少しの範囲でその内側径dが大きく、ウエハー11を洗浄後の液を回収する環状液回収槽14と、テーブル12に対して環状液回収槽14を相対的に上下動する昇降手段15とを有するウエハー洗浄装置10において、ウエハー11の外径Dよりテーブル12の外径Wを小さくし、しかも、テーブル12の外周部に、載置されたウエハー11の底面11aに液体を吹き付ける液ノズル24、25と、ウエハー11の底面11aに気体を吹き付けるガスノズル35を、半径方向外側から内側に順次配置した。

請求項（抜粋）：

軸心を合わせて載置された実質的に円板状のウエハーを吸着支持して回転駆動可能なテーブルを上部に備えるウエハー支持機構と、前記テーブルに載置される前記ウエハーの外径より少しの範囲でその内側径が大きく、前記ウエハーを洗浄後の液を回収する環状液回収槽と、前記テーブルに対して前記環状液回収槽を相対的に上下動する昇降手段とを有するウエハー洗浄装置において、前記ウエハーの外径より前記テーブルの外径を小さくし、しかも、前記テーブルの外周部に、載置された前記ウエハーの底面に液体を吹き付ける液ノズルと、前記ウエハーの底面に気体を吹き付けるガスノズルを、半径方向外側から内側に順次配置したことを特徴とするウエハー洗浄装置。

IPC (6件)：

H01L 21/304 643 ,  H01L 21/304 ,  H01L 21/304 651 ,  B08B 3/02 ,  B08B 5/00 ,  H01L 21/306

FI (7件)：

H01L 21/304 643 C ,  H01L 21/304 643 A ,  H01L 21/304 651 B ,  H01L 21/304 651 L ,  B08B 3/02 C ,  B08B 5/00 Z ,  H01L 21/306 J

Fターム (24件)：

3B116AA03 ,  3B116AB23 ,  3B116AB34 ,  3B116AB47 ,  3B116BB22 ,  3B116CC03 ,  3B116CD22 ,  3B201AA03 ,  3B201AB23 ,  3B201AB34 ,  3B201AB47 ,  3B201BB22 ,  3B201BB93 ,  3B201BB98 ,  3B201BB99 ,  3B201CB12 ,  3B201CC12 ,  3B201CD22 ,  5F043BB27 ,  5F043EE07 ,  5F043EE08 ,  5F043EE33 ,  5F043EE35 ,  5F043GG10

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 回転式基板処理装置およびカップの洗浄方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-197271   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• フォトレジスト現像装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-326930   出願人：鹿児島日本電気株式会社
• 処理装置及び処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-167967   出願人：東京エレクトロン株式会社
• スピン塗布装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-149255   出願人：三菱電機株式会社