特許
J-GLOBAL ID：200903071112751262

繰返しパターン形成方法および装置

発明者：
笠原 滋雄

笠原 滋雄 について


出願人/特許権者：
富士通株式会社

富士通株式会社 について


代理人 (1件)： 野河 信太郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-073840
公開番号（公開出願番号）：特開2000-268722
出願日： 1999年03月18日
公開日（公表日）： 2000年09月29日
要約：
【要約】【課題】 平行な所定ピッチの帯状のパターンを形成するために、パターン形成領域を小領域に分割して形成する場合に、小領域間の境界に生じる極端なパターンのばらつきを抑制すること。【解決手段】 対象物のパターン形成領域に複数本の帯状パターンを所定ピッチで平行に形成する方法であって、全パターン形成領域を帯状パターンに直行する方向について複数の小領域に分割し、小領域毎に工程を分けてパターンを形成すると共に、隣接する小領域間では相互のパターン形成領域を部分的に重ね合わせてパターン形成し、その重なり合う領域では先の工程で帯状パターンを間引くように形成し、後の工程でその間引かれた帯状パターンを補充するようにしたことを特徴とする。
請求項（抜粋）：
対象物のパターン形成領域に複数本の帯状繰返しパターンを所定ピッチで平行に形成する方法であって、全パターン形成領域を帯状パターンに直行する方向について複数の小領域に分割し、小領域毎に工程を分けてパターンを形成すると共に、隣接する小領域間では相互のパターン形成領域を部分的に重ね合わせ、その重なり合う領域では先の工程で帯状パターンを間引くように形成し、後の工程でその間引かれた帯状パターンを補充するようにしたことを特徴とする繰返しパターン形成方法。
IPC (5件)：
H01J 9/227 ,  B05C 11/00 ,  B05D 1/30 ,  H01J 9/02 ,  H01J 11/02
FI (5件)：
H01J 9/227 E ,  B05C 11/00 ,  B05D 1/30 ,  H01J 9/02 F ,  H01J 11/02 B
Fターム (28件)：
4D075AC07 ,  4D075AC93 ,  4D075DA06 ,  4D075DB14 ,  4D075DC22 ,  4D075EA05 ,  4D075EA21 ,  4F042AA07 ,  4F042BA08 ,  4F042CB03 ,  4F042DF15 ,  5C027AA09 ,  5C027AA10 ,  5C028FF16 ,  5C028HH14 ,  5C040FA01 ,  5C040GA03 ,  5C040GB02 ,  5C040GF02 ,  5C040GF19 ,  5C040GG09 ,  5C040JA13 ,  5C040JA40 ,  5C040MA02 ,  5C040MA22 ,  5C040MA23 ,  5C040MA24 ,  5C040MA25
引用特許：
出願人引用 (11件)
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審査官引用 (14件)
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