特許
J-GLOBAL ID：200903071259149355

遮光瞳を有する高開口率対物光学系

発明者：
マン ハンス-ユルゲン

マン ハンス-ユルゲン について

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シェイファー デイヴィッド

シェイファー デイヴィッド について

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ウルリッヒ ヴィルヘルム

ウルリッヒ ヴィルヘルム について


出願人/特許権者：
カール ツァイス エスエムテー アーゲー

カール ツァイス エスエムテー アーゲー について


代理人 (1件)： 藤田 和子
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-547354
公開番号（公開出願番号）：特表2008-525831
出願日： 2005年12月22日
公開日（公表日）： 2008年07月17日
要約：
本発明は、光線束を通過させる開口部を有さない少なくとも1枚の鏡(S1)を有する第1部分対物光学系(100)と、少なくとも1枚の1次凹面鏡(SK1)と1枚の2次凹面鏡(SK2)を有する第2部分対物光学系(200)とを含み、1次凹面鏡(SK1)と2次凹面鏡(SK2)が光線束を通過させる開口部を有する、動作波長が特に193nm以下の、対物光学系、特にマイクロリソグラフィー投影対物光学系に関する。【選択図】図1g
請求項（抜粋）：
光線束を通過させる開口部を有さない少なくとも1枚の鏡(S1)を有する第1部分対物光学系(100)と、 少なくとも1枚の1次凹面鏡(SK1)と1枚の2次凹面鏡(SK2)を有する第2部分対物光学系(200)とを含み、 前記1次凹面鏡(SK1)と前記2次凹面鏡(SK2)が光線束を通過させる開口部を有する、動作波長が特に193nm以下の、対物光学系、特にマイクロリソグラフィー投影対物光学系。
IPC (5件)：
G02B 17/08 ,  G02B 13/14 ,  G02B 13/18 ,  G02B 13/24 ,  H01L 21/027
FI (6件)：
G02B17/08 A ,  G02B13/14 ,  G02B13/18 ,  G02B13/24 ,  H01L21/30 515D ,  H01L21/30 531A
Fターム (8件)：
2H087KA21 ,  2H087NA02 ,  2H087RA05 ,  2H087TA01 ,  2H087TA02 ,  2H087TA06 ,  5F046CB25 ,  5F046GB01
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

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