特許

J-GLOBAL ID：200903071264762898

基板処理装置

発明者： 辻 雅夫 ,  大谷 正美 ,  今西 保夫 ,  岩見 優樹 ,  西村 讓一 ,  森田 彰彦
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-174065
公開番号（公開出願番号）：特開平11-026346
出願日： 1997年06月30日
公開日（公表日）： 1999年01月29日
要約：

【要約】【課題】 基板処理装置内での薬液によるパーティクルの発生を防止する。【解決手段】 薬液処理ユニット6を備えた基板処理装置において、この薬液処理ユニット6が配置される薬液処理領域付近の装置構成部材、例えば、装置のフレーム10や外扉22、23などの少なくとも表面を耐腐食性材料で形成した。

請求項（抜粋）：

薬液処理部を備えた基板処理装置において、前記薬液処理部が配置される薬液処理領域付近の装置構成部材の少なくとも表面を耐腐食性材料で形成したことを特徴とする基板処理装置。

IPC (5件)：

H01L 21/027 ,  H01L 21/304 341 ,  H05K 3/06 ,  G02F 1/1333 500 ,  H01L 21/02

FI (5件)：

H01L 21/30 562 ,  H01L 21/304 341 Z ,  H05K 3/06 E ,  G02F 1/1333 500 ,  H01L 21/02 Z

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 皮膜表面性状の評価方法と装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-136732   出願人：住友金属工業株式会社
• 特開平4-333234
  
• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-215186   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 基板の姿勢変換装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-252544   出願人：株式会社スガイ

審査官引用 (1件)

• 皮膜表面性状の評価方法と装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-136732   出願人：住友金属工業株式会社