特許
J-GLOBAL ID:200903071286284736
低温焼成磁器および電子部品
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件):
細田 益稔
, 青木 純雄
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-372632
公開番号(公開出願番号):特開2004-203646
出願日: 2002年12月24日
公開日(公表日): 2004年07月22日
要約:
【課題】Ba-Al-Si-Zn系の低誘電率の低温焼成磁器において、Q値を一層向上させることである。【解決手段】誘電率εrが10以下であるBa-Al-Si-Zn系低温焼成磁器であって、ホウ素の含有量がB2O3に換算して0.05重量%以上、0.3重量%以下である。また、誘電率εrが10以下である低温焼成磁器であって、BaSi2O5 相およびBaAl2Si2O8相を含有しており、結晶相の含有量を100重量部としたときの非晶質相の含有量が70重量部以下であり、この非晶質相が、バリウム、アルミニウム、珪素、亜鉛およびホウ素からなる群より選ばれた一種以上の元素を含む。【選択図】 図2
請求項(抜粋):
誘電率εrが10以下であるBa-Al-Si-Zn系低温焼成磁器であって、
ホウ素の含有量がB2O3に換算して0.05重量%以上、0.3重量%以下であることを特徴とする、低温焼成磁器。
IPC (3件):
C04B35/195
, H01B3/12
, H01G4/12
FI (4件):
C04B35/18 E
, H01B3/12 335
, H01B3/12 336
, H01G4/12 415
Fターム (33件):
4G030AA10
, 4G030AA19
, 4G030AA23
, 4G030AA24
, 4G030AA31
, 4G030AA32
, 4G030AA35
, 4G030AA36
, 4G030AA37
, 4G030AA43
, 4G030BA09
, 4G030CA01
, 4G030CA08
, 4G030GA01
, 4G030GA03
, 4G030GA04
, 4G030GA08
, 4G030GA14
, 4G030GA20
, 4G030GA22
, 4G030GA27
, 5E001AB01
, 5E001AE00
, 5E001AE02
, 5E001AE04
, 5G303AA02
, 5G303AB08
, 5G303CA03
, 5G303CB01
, 5G303CB02
, 5G303CB03
, 5G303CB30
, 5G303CB38
引用特許:
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