特許
J-GLOBAL ID:200903071309310241

ペリクル膜の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 山本 亮一 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-095752
公開番号(公開出願番号):特開平8-292552
出願日: 1995年04月21日
公開日(公表日): 1996年11月05日
要約:
【要約】 (修正有)【目的】 基板表面に形成したペリクル膜を基板表面から剥離して、ペリクル膜を容易に、且つ効率よく取得する方法を提供する。【構成】 本発明によるペリクル膜の製造方法は、基板表面に形成したペリクル膜を基板表面から剥離する方法において、基板の温度を露点温度より僅かに高い温度に下げて行なうことを特徴とするものである。
請求項(抜粋):
基板表面に形成したペリクル膜を基板表面から剥離する方法において、基板の温度を露点温度より僅かに高い温度に下げて行なうことを特徴とするペリクル膜の製造方法。
IPC (2件):
G03F 1/14 ,  H01L 21/027
FI (2件):
G03F 1/14 J ,  H01L 21/30 502 P
引用特許:
審査官引用 (5件)
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