特許

J-GLOBAL ID：200903071450580198

ポジ型感放射線性樹脂組成物

発明者： 小林 英一 ,  横山 健一 ,  王 勇 ,  岩永 伸一郎
出願人/特許権者： ジェイエスアール株式会社
代理人 (1件)： 大島 正孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-049811
公開番号（公開出願番号）：特開平11-249292
出願日： 1998年03月02日
公開日（公表日）： 1999年09月17日
要約：

【要約】【課題】 KRFエキシマレーザーなどの遠紫外線に対して高い透過率を有し、高感度(低露光エネルギー量)で効率良く酸を発生でき、かつ昇華性が小さく、優れた解像性能およびパターン形状をもたらしうる保存安定性に優れており、膜面荒れが小さく線幅制御が容易であり、微細加工に好適な感放射線性樹脂組成物を提供すること。【解決手段】(A)式(1)【化1】[式(1)において、R1およびR2は1価の有機基であり、相互に同一でも異なっていてもよい。但しR1およびR2の少なくとも一方はエステル結合(-COO-)またはアルコール性水酸基を有する。]で表される感放射線性酸形成剤と(B)酸解離性保護基を持つアルカリ不溶性またはアルカリ難溶性の樹脂であって、該酸解離性保護基が解離したときにアルカリ可溶性となる樹脂、とを含むポジ型感放射線性樹脂組成物。

請求項（抜粋）：

(A)式(1)【化1】[式(1)において、R1およびR2は1価の有機基であり、相互に同一でも異なっていてもよい。但しR1およびR2の少なくとも一方はエステル結合(-COO-)またはアルコール性水酸基を有する。]で表される感放射線性酸形成剤と(B)酸解離性保護基を持つアルカリ不溶性またはアルカリ難溶性の樹脂であって、該酸解離性保護基が解離したときにアルカリ可溶性となる樹脂、とを含むことを特徴とするポジ型感放射線性樹脂組成物。

IPC (2件)：

G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

G03F 7/004 503 A ,  H01L 21/30 502 R

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 新規なスルホニルジアゾメタン化合物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-198953   出願人：東京応化工業株式会社, ダイトーケミックス株式会社
• 化学増幅型レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-198979   出願人：東京応化工業株式会社
• 化学増幅系レジスト
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-313190   出願人：日本電気株式会社
• 新規なレジスト材料及びパタ-ン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-173830   出願人：和光純薬工業株式会社