特許
J-GLOBAL ID:200903071619230507
銅箔、銅箔の製造方法および前記銅箔を用いた積層回路基板
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (1件):
鈴木 雄一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-058951
公開番号(公開出願番号):特開2007-238968
出願日: 2006年03月06日
公開日(公表日): 2007年09月20日
要約:
【課題】銅箔と低融点金属を含む導電性ペーストとの界面に生成する低融点金属の拡散層を抑え、銅箔と導電性ペーストとの界面にボイドや亀裂が発生しない銅箔、および該銅箔の製造方法を提供する。【解決手段】元箔表面に、結晶方位が、X線回折法により測定した111面がもっとも多く、111面と200面との結晶方位の積分強度比率(111面/200面)が3以上である突起物群を設けた銅箔である。前記銅箔は、元箔表面に、過硫酸塩を0.1g/L以上20g/L以下の比率で添加した硫酸銅めっき液を用いて、電気めっき法にて析出させて製造する。【選択面】なし
請求項(抜粋):
銅、または、銅合金からなる元箔表面に、突起物群を形成してなる銅箔において、前記突起物群の結晶方位が、X線回折法により測定した111面がもっとも多く、前記突起物群の111面と200面との結晶方位の積分強度比率(111面/200面)が3以上であることを特徴とする銅箔。
IPC (6件):
C25D 7/06
, C25D 3/38
, H05K 1/09
, H05K 1/11
, H05K 3/38
, B32B 15/08
FI (6件):
C25D7/06 A
, C25D3/38 101
, H05K1/09 A
, H05K1/11 N
, H05K3/38 B
, B32B15/08 J
Fターム (44件):
4E351BB01
, 4E351BB30
, 4E351CC11
, 4E351DD04
, 4E351DD24
, 4E351DD54
, 4E351DD55
, 4E351GG20
, 4F100AB01B
, 4F100AB17A
, 4F100AB31A
, 4F100AK01B
, 4F100BA02
, 4F100CC00B
, 4F100DC11B
, 4F100DD02A
, 4F100EH71
, 4F100GB43
, 4F100JA04B
, 4F100JK06
, 4F100JK14A
, 4K023AA04
, 4K023AA19
, 4K023BA06
, 4K023CA05
, 4K023DA02
, 4K023DA06
, 4K024AA09
, 4K024AB19
, 4K024BA09
, 4K024BB11
, 4K024BC02
, 4K024CA02
, 5E317AA24
, 5E317BB14
, 5E317BB18
, 5E317CC17
, 5E317CD32
, 5E317GG20
, 5E343BB24
, 5E343BB67
, 5E343BB72
, 5E343EE41
, 5E343GG02
引用特許: