薄膜形成装置及び薄膜除去装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：大森純一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-330915
公開番号（公開出願番号）：特開2001-198515
出願日： 2000年10月30日
公開日（公表日）： 2001年07月24日
要約：

【要約】【課題】より簡易な手順による設定で、基板の4つの角部にレジスト膜の残りが生じることを防止できる薄膜形成装置を提供する。【解決手段】基板Gの表面にレジスト液を塗布しながらこの基板Gを回転させることでレジスト液の薄膜を形成するレジスト液塗布部50と、基板Gの周縁部に対して溶剤を吹き付け、これにより基板Gの周縁部を覆う不要な薄膜を除去する薄膜除去ヘッド60と、この薄膜除去ヘッド60を前記基板Gの周縁部に沿って駆動する移動機構62と、前記薄膜除去ヘッド60の移動範囲を区間Aと区間Bに分け、区間Aについての区間A速度と区間Bについての区間B速度を格納する格納部77と、前記格納部77から前記区間A速度及び区間B速度を取り出し、区間Aについては区間A速度で、区間Bについては区間B速度で前記薄膜除去部駆動部を動作させる制御部75とを有する。

請求項（抜粋）：

基板表面に塗布液を塗布しながらこの基板を回転させることで塗布液の薄膜を形成する薄膜形成部と、基板表面の周縁部に対して溶剤を吹き付け、これにより基板表面の周縁部を覆う不要な薄膜を除去する薄膜除去部と、この薄膜除去部を前記基板の周縁部に沿って駆動する薄膜除去部駆動部と、前記薄膜除去部の移動範囲を区間Aと区間Bに分け、区間Aについての区間A速度の情報と区間Bについての区間B速度の情報を格納する格納部と、前記格納部から前記区間A速度の情報及び区間B速度の情報を取り出し、区間Aについては区間A速度で、区間Bについては区間B速度で前記薄膜除去部駆動部を動作させる制御部とを有することを特徴とする薄膜除去装置。

IPC (7件)：

B05C 11/10 , B05C 5/00 101 , B05D 1/40 , B05D 3/10 , G03F 7/16 502 , G03F 7/42 , H01L 21/027

FI (8件)：

B05C 11/10 , B05C 5/00 101 , B05D 1/40 A , B05D 3/10 N , G03F 7/16 502 , G03F 7/42 , H01L 21/30 564 C , H01L 21/30 572 B

引用特許：

審査官引用 (4件)

薄膜除去方法及びその装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-256069 出願人：東京エレクトロン株式会社
処理装置及び処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-219464 出願人：東京エレクトロン株式会社
特開平2-115068

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