洗浄装置及び洗浄方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：熊谷隆 , 高木裕
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-202812
公開番号（公開出願番号）：特開2004-047714
出願日： 2002年07月11日
公開日（公表日）： 2004年02月12日
要約：

【課題】同一洗浄装置内で半導体基板(被洗浄物)の洗浄処理と乾燥処理とを行なっても、乾燥後の被洗浄物が逆汚染される恐れのない洗浄装置及び洗浄方法を提供すること。【解決手段】半導体基板Wを支持する支持手段10と、支持手段10の周囲を囲って洗浄液の飛散を防止する洗浄カップ20と、洗浄カップ20の周囲を囲う洗浄槽30とを有する洗浄装置1である。半導体基板Wの表面を洗浄する洗浄手段40,50の他に、洗浄カップ20の内壁21を洗浄液で洗浄する洗浄手段70と洗浄槽30の内壁31を洗浄液で洗浄する洗浄手段80とを設ける。洗浄手段70,80によって両内壁21,31が洗浄され内壁21,31に付着していた汚染物質が確実に取り除かれる。従って洗浄装置1内で半導体基板Wの洗浄処理を行った後にそのまま乾燥処理を行なっても、内壁21,31に付着した汚染物質によって洗浄後の半導体基板Wが逆汚染されることはない。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

被洗浄物を支持する支持手段と、前記支持手段の周囲を囲って洗浄液の飛散を防止する洗浄カップと、前記洗浄カップの周囲を囲う洗浄槽とを有する洗浄装置において、前記洗浄カップの内壁と前記洗浄槽の内壁の両方を洗浄液で洗浄する洗浄手段を設けたことを特徴とする洗浄装置。

IPC (5件)：

H01L21/304 , B08B3/02 , B08B3/08 , G02F1/13 , G02F1/1333

FI (5件)：

H01L21/304 643Z , B08B3/02 B , B08B3/08 Z , G02F1/13 101 , G02F1/1333 500

Fターム (20件)：

2H088FA21 , 2H088FA30 , 2H088HA01 , 2H090JC19 , 3B201AA01 , 3B201AB33 , 3B201AB47 , 3B201BA08 , 3B201BB02 , 3B201BB22 , 3B201BB90 , 3B201BB92 , 3B201BB93 , 3B201BB95 , 3B201CC01 , 3B201CC11 , 3B201CD31 , 4G059AA08 , 4G059AB19 , 4G059AC30

引用特許：

審査官引用 (6件)

特開平4-196425
基板処理装置および方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-039994 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-284254 出願人：株式会社東芝

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