特許
J-GLOBAL ID：200903071716201449
光学用材料用組成物、光学用材料およびその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-035196
公開番号（公開出願番号）：特開2002-235006
出願日： 2001年02月13日
公開日（公表日）： 2002年08月23日
要約：
【要約】【課題】耐熱性が高く、複屈折率が低く、光弾性係数が小さく、光学的透明性が高く、さらに耐候性に優れる光学用材料用組成物、光学用材料、その製造方法を提供すること。【解決手段】(A)SiH基と反応性を有する炭素-炭素二重結合を1分子中に少なくとも2個含有する有機系骨格からなる有機化合物、(B)1分子中に少なくとも2個のSiH基を含有するケイ素化合物、(C)ヒドロシリル化触媒、を必須成分とする組成物であって、フェノール性水酸基および/あるいはフェノール性水酸基の誘導体を有する化合物の含有量を75重量%以下にする。
請求項（抜粋）：
(A)SiH基と反応性を有する炭素-炭素二重結合を1分子中に少なくとも2個含有する有機系骨格からなる有機化合物、(B)1分子中に少なくとも2個のSiH基を含有するケイ素化合物、(C)ヒドロシリル化触媒、を必須成分とする組成物であって、フェノール性水酸基および/あるいはフェノール性水酸基の誘導体を有する化合物の含有量が75重量%以下である光学用材料用組成物。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (30件)：
4J002AC03X
, 4J002AC11X
, 4J002BG07X
, 4J002CC07X
, 4J002CF27X
, 4J002CG00X
, 4J002CH05X
, 4J002CH07X
, 4J002CL09X
, 4J002CM05X
, 4J002CP04W
, 4J002DA117
, 4J002DD077
, 4J002EA016
, 4J002EA026
, 4J002EA036
, 4J002EC046
, 4J002ED026
, 4J002ED056
, 4J002ED076
, 4J002EH006
, 4J002EH146
, 4J002EJ036
, 4J002EU186
, 4J002EV216
, 4J002EZ007
, 4J002FB297
, 4J002FD010
, 4J002FD157
, 4J002GP00
