特許
J-GLOBAL ID：200903025458884097
光学用材料用組成物、光学用材料およびその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-033501
公開番号（公開出願番号）：特開2002-235005
出願日： 2001年02月09日
公開日（公表日）： 2002年08月23日
要約：
【要約】【課題】光学的透明性が高くかつ耐候性と密着性に優れる光学用材料用組成物、光学用材料、その製造方法を提供すること。【解決手段】(A)SiH基と反応性を有する炭素-炭素二重結合を1分子中に少なくとも2個含有する有機系骨格からなる有機化合物、(B)1分子中に少なくとも2個のSiH基を含有するケイ素化合物、(C)ヒドロシリル化触媒、(D)シランカップリング剤、を必須成分とする組成物であって、フェノール性水酸基および/あるいはフェノール性水酸基の誘導体を有する化合物の含有量を75重量%以下にする。
請求項（抜粋）：
(A)SiH基と反応性を有する炭素-炭素二重結合を1分子中に少なくとも2個含有する有機系骨格からなる有機化合物、(B)1分子中に少なくとも2個のSiH基を含有するケイ素化合物、(C)ヒドロシリル化触媒、(D)シランカップリング剤、を必須成分とする組成物であって、フェノール性水酸基および/あるいはフェノール性水酸基の誘導体を有する化合物の含有量が75重量%以下である光学用材料用組成物。
IPC (6件)：
C08L 83/05
, C08K 3/00
, C08K 5/541
, C08K 5/5415
, C08K 5/56
, G02B 1/04
C08L 83/05
, C08K 3/00
, C08K 5/5415
, C08K 5/56
, G02B 1/04
, C08K 5/54
4J002BC011
, 4J002BH021
, 4J002BL011
, 4J002BL021
, 4J002BQ001
, 4J002DA117
, 4J002DE187
, 4J002EE047
, 4J002EW067
, 4J002EW137
, 4J002EX036
, 4J002EX058
, 4J002EX068
, 4J002EZ007
, 4J002FD148
, 4J002FD150
, 4J002GP00
, 4J002GP01
