特許

J-GLOBAL ID：200903071740842005

光学素子とその製造方法、液晶装置、及び投射型表示装置

発明者： 藤井 隆満
出願人/特許権者： 富士フイルム株式会社
代理人 (2件)： 柳田 征史 ,  佐久間 剛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-246725
公開番号（公開出願番号）：特開2008-070448
出願日： 2006年09月12日
公開日（公表日）： 2008年03月27日
要約：

【課題】側面形状が略垂直であり、アスペクト比の大きい複数の凸部からなる周期構造を有し、精度、製造容易性、製造安定性の良好な光学素子を提供する。【解決手段】基板10上であって前記複数の凸部20の非形成領域20rに、選択的に除去可能な犠牲層11をパターン形成する工程(A)と、基板10の犠牲層11をパターン形成した側に、基板面10sに対して非平行方向に延びる多数の柱状体からなる柱状構造膜21Xを形成する工程(B)と、リフトオフ法により、犠牲層11、及び柱状構造膜21Xの犠牲層11の上に位置する部分を除去して、多数の柱状体からなる複数の凸部20を形成する工程(C)とを順次実施する。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

基板上に、該基板の基板面に対して突設された複数の凸部を備えた光学素子の製造方法において、 前記基板上であって前記複数の凸部の非形成領域に、選択的に除去可能な犠牲層をパターン形成する工程(A)と、 前記基板の前記犠牲層をパターン形成した側に、前記基板面に対して非平行方向に延びる多数の柱状体からなる柱状構造膜を形成する工程(B)と、 リフトオフ法により、前記犠牲層、及び前記柱状構造膜の前記犠牲層の上に位置する部分を除去して、前記多数の柱状体からなる前記複数の凸部を形成する工程(C)とを順次実施することを特徴とする光学素子の製造方法。

IPC (3件)：

G02B 5/30 ,  G02F 1/133 ,  G03B 21/00

FI (4件)：

G02B5/30 ,  G02F1/1335 510 ,  G02F1/13363 ,  G03B21/00 E

Fターム (33件)：

2H049BA02 ,  2H049BA06 ,  2H049BA21 ,  2H049BA45 ,  2H049BC01 ,  2H049BC08 ,  2H049BC22 ,  2H091FA08X ,  2H091FA08Z ,  2H091FA11X ,  2H091FA11Z ,  2H091FB02 ,  2H091FB06 ,  2H091FC02 ,  2H091FC22 ,  2H091FC23 ,  2H091FC26 ,  2H091FC27 ,  2H091KA10 ,  2H091LA04 ,  2H091LA12 ,  2H091MA07 ,  2K103AA01 ,  2K103AA05 ,  2K103AB10 ,  2K103BC03 ,  2K103BC11 ,  2K103BC16 ,  2K103BC20 ,  2K103BC50 ,  2K103CA18 ,  2K103CA26 ,  2K103CA75

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 位相差素子
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-139536   出願人：三井化学株式会社
• 偏光化素子の製造方法、偏光化素子、および画像投影装置の製造方法、並びに画像投影装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-007759   出願人：株式会社ニコン

審査官引用 (2件)

• ナノメ-トルのスケ-ルのパタ-ンの複製
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-327186   出願人：コーニングインコーポレイテッド
• 波長板、立体画像表示装置、及び波長板の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-207239   出願人：株式会社リコー