表面評価方法およびその評価システム

発明者： , ,
出願人/特許権者： , ,
代理人 (2件)：後藤洋介 (外2名) , 後藤洋介 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-121426
公開番号（公開出願番号）：特開2000-310515
出願日： 1999年04月28日
公開日（公表日）： 2000年11月07日
要約：

【要約】【課題】評価領域の広域化を可能とする表面評価方法およびその評価システムを提供することである。【解決手段】光源1からの記評価信号が分岐して得られる分岐評価信号及び参照信号を試料であるシリコンメルト10の長手方向中心軸に焦点を有する集光レンズ7を通過させ、それぞれシリコンメルト10の表面及び参照面11に反射して得られた反射参照信号を、前記評価信号が前記シリコンメルト10の表面に反射して得られた反射評価信号及び反射参照信号を互いに干渉させて前記試料表面を評価する。

請求項（抜粋）：

曲率を有する試料の表面を評価する位相シフト干渉法において、光源からの評価信号が分岐されて得られた分岐評価信号の前記試料表面への入射は、該試料表面の法線方向に向かって行われることを特徴とする表面評価方法。

IPC (2件)：

G01B 11/24 , G01B 9/02

FI (2件)：

G01B 11/24 D , G01B 9/02

Fターム (27件)：

2F064AA09 , 2F064CC10 , 2F064EE01 , 2F064FF02 , 2F064FF05 , 2F064GG12 , 2F064GG23 , 2F064GG38 , 2F064GG39 , 2F064GG42 , 2F064GG53 , 2F064HH03 , 2F064HH08 , 2F064JJ15 , 2F065AA54 , 2F065BB06 , 2F065CC00 , 2F065FF52 , 2F065GG05 , 2F065JJ03 , 2F065JJ26 , 2F065LL12 , 2F065LL26 , 2F065LL36 , 2F065LL37 , 2F065LL49 , 2F065QQ16

引用特許：

審査官引用 (4件)

システムエラー測定方法及びそれを用いた形状測定装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-136885 出願人：キヤノン株式会社
透過波面測定用干渉計
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-262381 出願人：オリンパス光学工業株式会社
回転体中心軸の測定方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-112531 出願人：株式会社リコー

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