特許
J-GLOBAL ID：200903071829486210
基板洗浄装置及び基板洗浄方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大森 純一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-311928
公開番号（公開出願番号）：特開2003-203892
出願日： 2002年10月25日
公開日（公表日）： 2003年07月18日
要約：
【要約】【課題】 親水性又は疎水性のいずれかの基板に関わらず、基板上へのパーティクルの付着を防止できる基板洗浄装置及び基板洗浄方法を提供すること。【解決手段】 2流体ノズル36から吐出された洗浄液がカップCPの内側で跳ね返り、ミスト状となってウエハWの中心側へ向けて飛散するが、リンスノズル35によりリンス液をウエハWに供給して水膜51を形成しているため、水膜51上にミストが付着してもウエハ面に直接ミストが付着するわけではないので、ミストに含まれるパーティクルがウエハW上に付着することを防止でき、ウエハWに対する悪影響を防止できる。
請求項（抜粋）：
基板を回転可能に保持する回転保持部と、回転する基板上を径方向に移動可能に設けられ、洗浄液を吐出する洗浄ノズルと、前記洗浄ノズルによる洗浄の際に、基板上に液体を供給し基板上に液膜を形成する液体供給ノズルとを具備することを特徴とする基板洗浄装置。
引用特許：
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