特許
J-GLOBAL ID：200903071877102971

研磨排水処理方法

発明者：
川田 和彦

川田 和彦 について

, 
菅原 広

菅原 広 について

, 
丹野 健一

丹野 健一 について


出願人/特許権者：
オルガノ株式会社

オルガノ株式会社 について


代理人 (1件)： 三浦 進二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-159784
公開番号（公開出願番号）：特開平11-347569
出願日： 1998年06月09日
公開日（公表日）： 1999年12月21日
要約：
【要約】【課題】 研磨排水を膜分離し、濃縮水をカチオン基を有する高分子凝集剤で凝集処理することにより、産業廃棄物となるスラッジ量を減少させることができる研磨排水方法を提供する。【解決手段】 研磨剤粒子等を含有する研磨排水を膜分離処理し、得られる濃縮水をカチオン基を有する高分子凝集剤、必要に応じて更にアニオン性高分子凝集剤を用いて凝集処理を行い、次いで固液分離する。膜分離の透過水は、放流できるが、逆浸透膜処理やイオン交換処理等の簡単な処理により水の回収再利用ができる。分離膜としては、精密濾過膜や限外濾過膜を好ましく用いることができる。カチオン基を有する高分子凝集剤としては、各種のカチオン性高分子凝集剤や両性高分子凝集剤を用いることができる。この方法は、各種の研磨排水に利用することができるが、特に酸性乃至中性のCMP(ケミカルメカニカルポリッシング)工程排水等のCMP工程排水に利用して好適である。
請求項（抜粋）：
研磨剤粒子等を含有する研磨排水を膜分離処理し、得られる濃縮水をカチオン基を有する高分子凝集剤を用いて凝集処理を行い、次いで固液分離することを特徴とする研磨排水処理方法。
IPC (2件)：
C02F 1/56 ,  C02F 1/44
FI (2件)：
C02F 1/56 K ,  C02F 1/44 E
引用特許：
審査官引用 (4件)
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