特許
J-GLOBAL ID：200903071916664710

パターン描画装置、パターン描画方法、および検査装置

発明者：
赤川 雅俊

赤川 雅俊 について

, 
関川 和成

関川 和成 について


出願人/特許権者：
新光電気工業株式会社

新光電気工業株式会社 について


代理人 (4件)： 石田 敬 ,  土屋 繁 ,  西山 雅也 ,  樋口 外治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-066797
公開番号（公開出願番号）：特開2004-279446
出願日： 2003年03月12日
公開日（公表日）： 2004年10月07日
要約：
【課題】基板に関して鏡像関係となるパターンを基板の両面に形成する場合において、低コストで、工程が短縮化されたパターン描画装置およびパターン描画方法、ならびにこのパターン描画装置における検査装置を実現する。【解決手段】基板に関して鏡像関係となるパターンを基板の両面に形成するパターン描画装置は、マスクレス露光手段もしくはインクジェットパターニング手段などの直接描画手段を用いて、所定のデータに基づき基板の両面を直接描画することでパターンを基板の両面に形成する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
基板に関して鏡像関係となる露光パターンを該基板の両面に形成するパターン描画装置であって、 所定のデータに基づいて基板の両面をマスクレス露光することで露光パターンを該基板の両面に形成するマスクレス露光手段を備えることを特徴とするパターン描画装置。
IPC (2件)：
G03F7/207 ,  H01L23/50
FI (2件)：
G03F7/207 Z ,  H01L23/50 A
Fターム (3件)：
2H097AA01 ,  2H097AA04 ,  5F067DA16
引用特許：
審査官引用 (4件)
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