特許
J-GLOBAL ID:200903072106474210
クーラント再生装置及び廃スラリー再生システム、並びに、廃クーラントの再生方法及び廃スラリーの再生方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
好宮 幹夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-171490
公開番号(公開出願番号):特開2005-349507
出願日: 2004年06月09日
公開日(公表日): 2005年12月22日
要約:
【課題】ワークの加工に使用された後の廃スラリーを再生する際に排出される廃クーラントを、コストへの負担が大きい蒸留装置等を用いずに、安価に安定して再生することのできる廃クーラントの再生装置を提供する。【解決手段】クーラントに砥粒を分散させたスラリーを用いてワークに加工を行ったときに生じる廃スラリーを再生する際に、該廃スラリーから分離されて排出される廃クーラントを再生するクーラント再生装置であって、少なくとも、前記廃クーラントを収容して加熱する前処理槽2と、前記廃クーラントにアルカリ溶液を添加するアルカリ溶液供給手段3と、前記アルカリ溶液が添加されて前記前処理槽で加熱された廃クーラントを濾過する濾過機4とを具備することを特徴とするクーラント再生装置1。【選択図】図1
請求項(抜粋):
クーラントに砥粒を分散させたスラリーを用いてワークに加工を行ったときに生じる廃スラリーを再生する際に、該廃スラリーから分離されて排出される廃クーラントを再生するクーラント再生装置であって、少なくとも、前記廃クーラントを収容して加熱する前処理槽と、前記廃クーラントにアルカリ溶液を添加するアルカリ溶液供給手段と、前記アルカリ溶液が添加されて前記前処理槽で加熱された廃クーラントを濾過する濾過機とを具備することを特徴とするクーラント再生装置。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (10件):
3C047FF06
, 3C047GG13
, 3C047GG17
, 4D015BA19
, 4D015BB02
, 4D015CA20
, 4D015EA14
, 4D015EA35
, 4D015FA01
, 4D015FA29
引用特許:
出願人引用 (1件)
-
廃スラッジの再利用システム
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-024506
出願人:三益半導体工業株式会社, 大智化学産業株式会社
審査官引用 (7件)
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