特許
J-GLOBAL ID：200903076380005435
酸化セリウム系研磨剤再生方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
天野 正景 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-005567
公開番号（公開出願番号）：特開2003-205460
出願日： 2002年01月15日
公開日（公表日）： 2003年07月22日
要約：
【要約】【課題】 酸化セリウム系研磨剤を再生すること、つまり再生処理中に酸化セリウム系研磨剤を凝集させることなく、研磨剤の表面に付着したガラス(珪素)成分を十分に除去し、この酸化セリウム系研磨剤によっても使用前と実質的に同等の研磨速度と低いスクラッチの発生頻度を維持することを課題とする。【解決手段】 劣化した酸化セリウム系研磨剤懸濁液に分散剤を添加したのち、この懸濁液の水素イオン濃度がpH10.5以上となるようにアルカリ成分を添加する。これを50°C以上の温度に加熱することによって付着した珪素成分を溶解させて、酸化セリウム系研磨剤を再生する。添加された分散剤によって、研磨剤粒子の凝集が防止される。
請求項（抜粋）：
劣化した酸化セリウム系研磨剤懸濁液に分散剤を添加したのち、この懸濁液の水素イオン濃度がpH10.5以上となるようにアルカリ成分を添加し、これを50°C以上の温度に加熱することによって酸化セリウム系研磨剤を再生することを特徴とする酸化セリウム系研磨剤再生方法。
Fターム (2件)：
引用特許：
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