特許
J-GLOBAL ID:200903072107248389
プラズマプロセス装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
深見 久郎
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-383037
公開番号(公開出願番号):特開2003-188106
出願日: 2001年12月17日
公開日(公表日): 2003年07月04日
要約:
【要約】【課題】 加工性が高性能で、均一性のよいプラズマプロセス装置を提供することを主要な目的とする。【解決手段】 プラズマプロセス装置は、処理室5と、処理室5内に材料ガスを導入するためのガス導入口6と、複数の放電電極2a,2bと、複数の端子を有する交流電源1とを備える。複数の端子は、出力される端子と、該出力される端子以外の浮遊電位となる端子から構成される。複数の放電電極2a,2bは、出力される端子に接続された放電電極と、前記出力される端子に接続された前記放電電極以外の、前記浮遊電位となる端子に接続されずに接地電位となる放電電極と、から構成される。出力される端子に接続された放電電極と、浮遊電位となる端子に接続されずに接地電位となる放電電極と、を切換えることが可能である。
請求項(抜粋):
処理室と、前記処理室内に材料ガスを導入するためのガス導入口と、複数の放電電極と、複数の端子を有する交流電源とを備えたプラズマプロセス装置において、前記複数の端子は、出力される端子と、該出力される端子以外の浮遊電位となる端子から構成され、前記複数の放電電極は、前記出力される端子に接続された放電電極と、前記出力される端子に接続された前記放電電極以外の、前記浮遊電位となる端子に接続されずに接地電位となる放電電極と、から構成され、前記出力される端子に接続された放電電極と、前記浮遊電位となる端子に接続されずに接地電位となる放電電極と、を切換えることが可能なプラズマプロセス装置。
IPC (4件):
H01L 21/205
, C23C 16/515
, H01L 21/3065
, H05H 1/46
FI (4件):
H01L 21/205
, C23C 16/515
, H05H 1/46 L
, H01L 21/302 B
Fターム (26件):
4K030AA06
, 4K030BA30
, 4K030CA06
, 4K030FA01
, 4K030JA03
, 4K030JA20
, 4K030KA30
, 5F004BA06
, 5F004BB11
, 5F004BB13
, 5F004BD01
, 5F004BD04
, 5F004CA03
, 5F004DA01
, 5F004DA04
, 5F004DA11
, 5F004DA18
, 5F004DA26
, 5F004DA29
, 5F045AA08
, 5F045AB04
, 5F045BB02
, 5F045DP05
, 5F045EH04
, 5F045EH14
, 5F045EK07
引用特許:
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