特許

J-GLOBAL ID：200903072178658707

マルチビーム走査装置及び光源装置

発明者： 山口 勝己
出願人/特許権者： 株式会社リコー
代理人 (1件)： 柏木 明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-244903
公開番号（公開出願番号）：特開平11-084283
出願日： 1997年09月10日
公開日（公表日）： 1999年03月26日
要約：

【要約】【課題】 光源装置や偏向手段、結像光学系等をそれ程大型化せずに比較的安価にして4ビーム以上のマルチビーム化を図る。【解決手段】 各々n(n≧2)個の発光点を有するm(m≧2)個の半導体レーザアレイ21 〜2m を有する光源装置1を用いることで、従来のビーム合成方式に比して、光源装置1を大型化せずにn倍のマルチビーム化を図ることができ、従来の半導体レーザアレイ方式に比してm倍のマルチビーム化を図ることができ、マルチビーム化をより有利な条件で実現できる。

請求項（抜粋）：

各々n(n≧2)個の発光点を有するm(m≧2)個の半導体レーザアレイと、各半導体レーザアレイから発せられるn本の光ビームを各々実質的な平行光束とするm個のコリメートレンズと、平行光束化されたmn本の光ビームを合成するビーム合成手段とを有する光源装置と、この光源装置から射出されたmn本の光ビームを偏向走査させる偏向手段と、前記光源装置から射出されたmn本の光ビームを前記偏向手段を介して被走査面上に光スポットとして結像させる結像光学系と、を備えることを特徴とするマルチビーム走査装置。

IPC (2件)：

G02B 26/10 ,  B41J 2/44

FI (2件)：

G02B 26/10 B ,  B41J 3/00 D

引用特許：

審査官引用 (3件)

• マルチビーム走査装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-068982   出願人：株式会社リコー
• 光束合成装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-096804   出願人：旭光学工業株式会社
• マルチビーム走査装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-007861   出願人：株式会社リコー