特許

J-GLOBAL ID：200903072184439740

レジスト形状計算方法及びレジスト形状計算システム

発明者： 乾 博智
出願人/特許権者： 日本電気株式会社
代理人 (1件)： 金田 暢之 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-047026
公開番号（公開出願番号）：特開2000-243694
出願日： 1999年02月24日
公開日（公表日）： 2000年09月08日
要約：

【要約】【課題】 計算時間を短縮できるレジスト形状計算方法及びレジスト形状計算システムを提供する。【解決手段】 光学系のカーネル関数を計算してこれをテーブル化する。次に、光学系のカーネル関数とガウス関数とのコンボリューション積分によって得られる新しいカーネル関数のテーブルを計算する。次に、レジスト形状関数をマスク透過率と新しいカーネル関数のテーブルとから計算する。そして、レジスト形状関数を全領域について繰り返し計算する。

請求項（抜粋）：

光学系のカーネル関数を拡散長の3倍だけ拡張してその部分を0で埋め、前記光学系のカーネル関数とガウス関数とのコンボリューション積分によって得られる新しいカーネル関数を使ってレジスト形状計算を行うレジスト形状計算方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/26 501

FI (2件)：

H01L 21/30 502 G ,  G03F 7/26 501

Fターム (5件)：

2H096LA17 ,  5F046AA28 ,  5F046DA02 ,  5F046DA30 ,  5F046JA21

引用特許：

出願人引用 (4件)

• ポストベークシミュレーション方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-023836   出願人：日本電気株式会社
• レジストパターン形状のシミュレーション方法及びシミュレーション装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-055880   出願人：株式会社日立製作所
• 露光方法およびレジストパターン算出方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-281749   出願人：ソニー株式会社
• 特開平4-343214