ガラス基板またはウエハー処理用エッシング装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：細田益稔 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-197916
公開番号（公開出願番号）：特開2002-100619
出願日： 2001年06月29日
公開日（公表日）： 2002年04月05日
要約：

【要約】ガラス基板またはウエハー処理用エッシング装置はフォトレジストが塗布されたガラス基板またはウエハーが安着される下部電極と、前記の下部電極と共に電界を形成する上部電極と、チェンバナ内へガスを供給するためのガススリットまたはガスパイプと、前記の上部電極上に提供され、チェンバ外壁と共にチェンバの密閉雰囲気を形成する安全蓋と、前記の上部電極と下部電極に電界を形成するための電力供給装置と、前記の上部電極とチェンバ外壁間に挿入されて電気的接触を防止する絶縁体と、チェンバ内で気化されたフォトレジストをチェンバ外部へ排出するための排気口などを含んでからなる。

請求項（抜粋）：

フォトレジストが塗布されたエッシング対象物が安着されるチェンバ内の下部電極と、前記下部電極と共に電界を形成し、前記チェンバの片側外壁を構成する上部電極と、前記上部電極の下部前記チェンバ内部の片側に形成されてチェンバ外部のガス供給部からチェンバ内部へエッシングガスを供給するガススリットと、前記上部電極上に提供され、チェンバ外壁と共にチェンバの密閉雰囲気を形成する安全蓋と、前記上部電極と下部電極に電界を形成する電力供給装置と、前記上部電極とチェンバ外壁の間に挿入され、電気的接触を防止する絶縁体と、前記チェンバ内で気化されたフォトレジストをチェンバ外部に排出するための排気口を含んでからなるエッシング装置。

IPC (2件)：

H01L 21/3065 , G02F 1/1333 500

FI (2件)：

G02F 1/1333 500 , H01L 21/302 H

Fターム (7件)：

2H090JB02 , 2H090JC09 , 2H090JC19 , 5F004AA16 , 5F004BA04 , 5F004BA20 , 5F004BD01

引用特許：

審査官引用 (11件)

特開平3-181128
半導体製造装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-020140 出願人：株式会社日立製作所
多段処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-142648 出願人：平田機工株式会社

全件表示

前のページに戻る